Toppan Photomasks 核准在中國投入全新 65 奈米至 14 奈米的先進技術及產能計畫

作者 | 發布日期 2016 年 08 月 10 日 17:50 | 分類 市場動態 , 晶片 , 零組件 follow us in feedly

全球業界首選光罩合作夥伴 Toppan Photomasks, Inc.(TPI)10 日宣布核准對近期擴建的中國上海廠的下一階段投資計畫;該廠由 TPI 獨資子公司 Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai(TPCS)營運。TPI 將對此工廠再投資 8,000 萬美元以展現其對中國快速成長的半導體產業及客戶的長期承諾。TPI 先前已投資 2,000 萬美元擴建上海二廠(TPCS Shanghai II);該廠現已量產並且為中國唯一提供全方位技術及產品的商業光罩廠。



TPI 執行長 Mike Hadsell 表示:「相較於其他供應商,上海廠除了提供中國客戶縮短兩天周期的優勢外,並有利於加速客戶攻佔市場的時效。今天的宣布除了以上優勢,並擴大光罩生產能力至 28 奈米。上海廠的先進技術也將更進一步延伸至 14 奈米,以符合中國半導體市場快速演進的需求。此外,上海廠區也有足夠的擴建空間以支援客戶在未來 10 年甚至更長遠的產能需求。」

甫擴展的上海二廠坐落於目前公司營運地(上海漕河涇開發區),除了擁有先進的一級無塵室及設備外,並有利於下一階段的擴展計畫。此階段的生產能力及技術將聚焦於 65 至 14 奈米的邏輯與先進記憶體(DRAM 及 NAND)。待今日宣布的計畫完成後,仍將有 40% 的無塵室空間以做為日後擴展所需。 

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