2018 台灣國際半導體展儀科中心亮點展出

作者 | 發布日期 2018 年 09 月 06 日 12:00 | 分類 市場動態 , 晶片 , 零組件 follow us in feedly

「SEMICON Taiwan 台灣國際半導體展」匯集全世界頂尖的半導體科技廠商參與,連結了 IC 設計、製造、設備材料等環節,每年均吸引數萬人參觀。國家實驗研究院儀器科技研究中心(儀科中心)累積 40 多年光學與真空技術能量,於會場展示已通過半導體製程實際驗證之曝光機關鍵零組件,並展現原子層沉積技術的自主研發成果與客製服務績效。



為因應產業界對於半導體製程的尺寸微縮需求,以及奈米科技於多元科技之應用發展,國研院儀科中心深耕「原子層沉積技術」(ALD)十多年,已提供學界與業界多套自製 ALD 系統,並累積創新系統設計能力。此次展出自行研製開發的「電子顯微鏡試片電子損傷防護鍍膜系統」,是一桌上型 ALD 鍍膜系統,專為小尺寸試片與探針製鍍超薄奈米結構,具備高密度表面絕緣保護膜製鍍品質,並可應用於生物試片與原子解析度三維重構試片製鍍。除客製化 ALD 機台設備外,儀科中心的「原子層沉積聯合實驗室」服務平台提供前驅物材料合成及篩選、關鍵製程技術開發,協助半導體產業實現先進系統設計與新穎材料測試。

國研院儀科中心以驅動儀器設備在地化為使命,近年來全力投入半導體設備關鍵零組件自製開發,建構台灣半導體產業儀器設備自主化的能量與契機。儀科中心將其在光機電及真空領域深耕逾 40 年的技術能量,與半導體設備產業進行結合,期望帶動上下游關鍵零組件在地化發展,落實半導體設備光學元件自主化製造的目標,提升台灣半導體產業的競爭力。

除了參加國際半導體展,國研院儀科中心將於 9 月 20 日於該中心舉辦「2018 原子層沉積技術發展與產業應用研討會」,9 月 21 日於新竹竹北豐邑喜來登飯店舉辦「半導體先進製程及設備研發聯盟交流會」,藉由交流會整合產、學、研三方能量,連結半導體上下游產業,提升台灣半導體產業於國際的競爭力。