Tag Archives: 卡爾蔡司

卡爾蔡司砸逾 3 億進駐竹科，聚焦半導體材料檢測需求
作者 |發布日期 2023 年 10 月 12 日 8:36 |
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分類 半導體 , 財經 , 零組件

國科會 11 日召開科學園區審議會第 11 次會議，會中通過 5 件投資案，投資總額計新台幣 10.54 億元，有對外公開的 4 案，包括精密機械的卡爾蔡司投資 3.12 億元進駐竹科，聚焦先進製程研發和第三代半導體材料檢測需求；同時有 6 件增資案，合計增資逾 33.7 億元。

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艾司摩爾 EUV 設備生產不順，原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足
作者 |發布日期 2017 年 10 月 12 日 17:55 |
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分類 GPU , 國際貿易 , 晶片

目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下，大家都寄望藉由極紫外光微影設備（EUV）協助製程向前發展，也使摩爾定律（Moore’s Law）再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾（ASML）來說，因為製造難度，已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出，艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因，就是來自光學鏡頭供應商蔡司（Carl Zeiss）供貨進度跟不上需求所致。

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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾
作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 |
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分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導，日本光學大廠尼康（Nikon） 於 24 日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。

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