全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光（EUV）微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標，不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄，更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。
ASML 極紫外光微影系統，刷新生產力紀錄 |
作者
TechNews|發布日期
2015 年 02 月 24 日 19:10 |
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全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光（EUV）微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標，不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄，更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。
