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因應 5 奈米,宜特推獨家去層方式,避免 Die 損壞,完整提出電路圖

作者 |發布日期 2020 年 04 月 06 日 9:30 | 分類 市場動態 , 晶片 , 材料、設備

為了協助客戶做好專利迴避、完整提出該層電路圖找異常點(Defect),宜特 3 月 26 日推出獨家晶片去層技術,將樣品如魔術般放大,直接在晶片封裝(Package)還存在的情況下進行去層工程,不僅可以大幅提升工程上的良率,完整提出電路圖,還可衍生應用在合金 PAD、精密 IC 及其他無法取 Die 卻需要去層的晶片樣品上。 繼續閱讀..