Tag Archives: 研磨液

台灣半導體產業太吸引人!日本富士電子材料斥資 34 億元在台擴產

作者 |發布日期 2023 年 05 月 16 日 17:00 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

日本 FUJIFILM 公司宣布,其將在台灣新設一座先進半導體材料廠,以拓展其電子材料事業。該新建工廠計畫,將由台灣子公司─台灣富士電子材料在新竹取得用地後興建,預計新工廠將於 2026 年春季啟用、規劃生產 CMP 研磨液與微影相關材料。另外,既有的台南廠房也將進行設備與產線增建,預計 2024 年春季新增 CMP 研磨液產線。總計,包括新竹新廠與台南廠擴產的投資金額將高達 150 億日圓(約新台幣 34 億元)。

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陶氏化學也對中國華為展開禁售,是否擴及半導體廠生產令人關注

作者 |發布日期 2019 年 05 月 29 日 13:10 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 會員專區

就在美中貿易戰升溫,美國政府對中國華為及子公司祭出禁售令之後,全球大型科技廠商紛紛加入禁售行列。根據最新消息,全球光阻劑與研磨液大廠陶氏化學(Dow Chemical)正式宣布,因為遵守美國政府的管制條例,不再售予華為及子公司相關產品,全球禁運華為再多一樁。

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看準台積電領頭投資台灣商機,陶氏化學加碼擴大竹南 CMP 中心

作者 |發布日期 2018 年 03 月 26 日 15:10 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區

看準半導體產業包括台積電、日月光等大廠在台灣的持續投資,陶氏杜邦特種產品事業部旗下的陶氏電子材料,26 日宣布位於竹南的亞洲 CMP(化學機械平坦化)製造和技術中心舉行第 4 期擴廠典禮儀式,未來新廠房將擴大為化學機械研磨墊的生產基地。

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