Tag Archives: DUV

艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭,預計積極增產

作者 |發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 |
分類 國際貿易 , 奈米 , 材料、設備

根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示,2017 年全球半導體光刻設備,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%,以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。

繼續閱讀..

GlobalFoundries 公布 7 奈米製程細節:最大晶片大小 700mm²,2018 年量產

作者 |發布日期 2017 年 06 月 26 日 13:16 |
分類 Samsung , 晶片 , 零組件

半導體公司 GlobalFoundries 最近公布了其 7 奈米製程的細節。正如去年 9 月公告,將擁有多代 7 奈米 FinFET 製程,其中包括使用 EUV 技術的先進製程。GlobalFoundries 宣布,其 7LP 技術將拓展到三代,使用戶能夠生產面積為 700mm² 的晶片。據悉,首批採用 7LP 製程的晶片將於 2018 年下半年開始試產。 繼續閱讀..