Tag Archives: EUV

SK 海力士中國無錫廠提升製程擴產，卡關美國禁令藉運輸解決

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 16 日 11:15 |

分類半導體 , 記憶體 , 零組件

隨著記憶體市場的復甦，韓國記憶體大廠 SK 海力士也為了進行擴產做準備，目前正在藉由先前美國給予的出口限制豁免，開始對中國無錫工廠進行製程升級的動作。另外，也進一步以運輸的方式，繞過至今美國仍對中國堅守的 EUV 極紫外光曝光機出口禁令。

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大摩看好台積電 2024 年營收表現，力挺台積電 688 元目標價

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 15 日 10:10 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

外資摩根士丹利最新研究報告指出，即將在本週召開法人說明會的晶圓代工龍頭台積電，預計在 2024 年將是業績成長強勁的一年。其中，2024 年營收年增接近 20%，全年毛利率將略低於 53%，並且資本支出將維持 300 億美元，較 2023 年持平的情況下，看好台積電的業績發展，給予「優於大盤」的投資評等，目標價來到每股新台幣 688 元。

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台積電法說前夕，傳 ASML 高層將來台拜訪

作者 MoneyDJ|發布日期 2024 年 01 月 08 日 13:30 |

分類半導體 , 國際貿易 , 晶圓

晶圓代工龍頭台積電 18 日法說會召開在即，業界傳出，半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱（Christophe Fouquet）近日將率高層來台拜訪台積電與供應商，目的在於討論 EUV（極紫外光）設備供應與發展、下世代機台相關規劃，凸顯雙方在先進製程的未來將持續緊密合作。繼續閱讀..

英特爾拿下首套 High-NA EUV，威脅台積電龍頭地位？

作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 08 日 7:30 |

分類 IC 設計 , 公司治理 , 半導體

英特爾 (Intel) 近日宣布，已經接收市場首套具有 0.55 數值孔徑（High-NA）的 ASML 極紫外（EUV）曝光機，將協助其在未來幾年大成更先進的晶片製程技術。與之形成對比的是，台積電當前則視似乎按兵不動，並不急於加入這場下一代曝光技術的競賽。市場分析師預計，台積電可能要到 1.4 奈米 (A14)，或是更晚的 2030 年之後才會採用這項技術。

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2023 年全球光阻劑市場解析

作者拓墣產研|發布日期 2023 年 12 月 27 日 7:30 |

分類半導體 , 晶圓 , 會員專區

2022 年全球經濟呈現較大波動，受地緣政治衝突不斷，宏觀經濟下行壓力增大等影響，消費性電子產品需求出現放緩跡象，半導體產業進入下行週期。持續至今年上半年，宏觀經濟下行壓力仍未改善，受此影響消費性電子需求依舊疲軟，半導體產業呈現去庫存、產線稼動率下行等特徵，今年半導體市場規模預定出現負增長。繼續閱讀..

Canon：奈米壓印降低先進製程生產成本，拉近與 ASML 差距

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 26 日 7:10 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon)，10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後，日前執行長御手洗富士夫表示，新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路，不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。

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Imec 與三井化學攜手，推動 EUV 奈米碳管光罩護膜商用

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 23 日 9:00 |

分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

比利時微電子研究中心（imec）攜手日本化工及極紫外光（EUV）光罩護膜大廠三井化學共同宣布，為了推動針對極紫外光（EUV）微影應用的奈米碳管（CNT）曝光薄膜技術商業化，雙方正式建立策略夥伴關係。

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英特爾採購六套 High-NA EUV 曝光機給 2 奈米製程用

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 19 日 18:00 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

韓國三星日前與荷蘭半導體設備商 ASML 簽署了價值 1 兆韓圜（約 7.55 億美元）的協議，兩家公司將在韓國投資建造半導體晶片研究工廠，並將在該研究工廠開發新一代 EUV 半導體製造技術。三星電子副董事長兼設備解決方案部門負責人 Kyung Kye-hyun 強調，兩家公司的最新協議將幫助其獲得下一代 High-NA EUV 曝光機。

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ASML、三星建研發中心，韓媒：對下代記憶體製程開發很重要

作者林妤柔|發布日期 2023 年 12 月 14 日 15:54 |

分類半導體 , 晶圓 , 材料、設備

韓國三星電子和荷蘭半導體設備龍頭 ASML 已簽署備忘錄，將共同投資 7 億歐元，在韓國打造半導體技術研發中心，目標是開發下一代 EUV 曝光技術的超精細製程和設備。繼續閱讀..

台積電 1.4 奈米製程稱為 A14，2027~2028 年推出

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 14 日 11:40 |

分類公司治理 , 半導體 , 晶圓

晶圓代工龍頭台積電在近日舉辦的 IEEE 國際電子元件會議（IEDM）的小組研討會上透露，1.4 奈米製程技術研發已經全面展開。同時，台積電重申，2 奈米製程技術將按計畫於 2025 年開始量產。

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ASML 與三星簽署備忘錄，韓國建立研究中心

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 13 日 7:30 |

分類半導體 , 晶圓 , 材料、設備

半導體曝光機大廠 ASML 宣布，與韓國三星電子簽署備忘錄，共同投資 1 兆韓圜（約新台幣 230 億元）建立研究中心，並用下一代極紫外（EUV）曝光機研究先進半導體製程技術。ASML 也宣布與 SK 海力士簽署 ESG 備忘錄，雙方在環境、社會和公司治理專案合作。

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IBM、Micron、應材、東京威力科創攜手紐約州，投資百億美元設 High-NA EUV 製程研發中心

作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 13 日 7:00 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

日前，美國紐約州長 Kathy Hochul 宣佈，與包括 IBM、美光、應用材料、東京威力科創等半導體大廠達成協議，預計將投資 100 億美元（約新台幣 3,100 億元）在紐約州 Albany NanoTech Complex 興建下一代 High-NA EUV 半導體製程研發中心。

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曝光技術大進展！三星稱關鍵材料 EUV 光罩護膜「透光率達 90%」

作者林妤柔|發布日期 2023 年 12 月 04 日 16:27 |

分類半導體 , 晶圓 , 材料、設備

三星電子在 EUV 曝光技術取得重大進展，韓媒 Business Korea 報導，三星電子 DS 部門研究員 Kang Young-seok 表示，三星使用的 EUV 光罩護膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達 90%，計劃再提高至 94-96%。繼續閱讀..

Canon：NIL 售價比 ASML EUV 少一位數，難賣至中國

作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 11 月 06 日 12:15 |

分類半導體 , 國際貿易 , 材料、設備

日本半導體設備大廠 Canon Inc. 透露，新「奈米壓印」（Nano-imprint Lithography，NIL）微影設備售價只有龍頭廠艾司摩爾（ASML Holding N.V.）最佳機台的幾分之一。繼續閱讀..

ASML Q3 接單淨額下滑逾四成，2024 年營運持平看待

作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 10 月 19 日 9:30 |

分類半導體 , 材料、設備 , 財報

歐洲半導體設備供應商艾司摩爾（ASML Holding NV）8 日公布 2023 年第三季（Q3，截至 2023 年 10 月 1 日）財報，成績大致符合預期。繼續閱讀..

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