半導體微影技術廠商艾司摩爾（ASML）公佈 2018 第一季財報。ASML 第一季營收淨額（net sales）22.9 億歐元，淨收入 5.4 億歐元，毛利率（gross margin）為 48.7%。預估 2018 第二季營收淨額（net sales）將落在 25 億至 26 億歐元之間，毛利率（gross margin）約為 43%，反映 EUV 營收將大幅增加。
ASML 總裁暨執行長溫彼得（Peter Wennink）表示 : 「第一季業績表現強勁，超出預期，主要來自於大量出貨，以及客戶對深紫外光（DUV）微影系統和全方位微影方案（Holistic Litho）的需求。在 EUV 方面，本季我們共完成 3 台 EUV 系統出貨，另一台則正準備出貨。我們在第一季獲得 9 台 NXE: 3400B 訂單，也確認 EUV 業務持續成長。 近來不同客戶都公開討論將於今年底前將採用 EUV 進行晶片量產。因此，我們計畫在 2018 年完成 20 台 EUV 系統出貨，並在 2019 年將 EUV 出貨量拉升到 30 台以上，全力協助客戶達成其量產目標。此外，關於下一代 High-NA（高數值孔徑）EUV 產品，我們也開始從三個主要客戶方面接到 4 台訂單，另外有 8 台 EUV 訂單則是採取升級方案（options）。」
High-NA 是 EUV 微影技術的延伸，解析度（resolution）和微影疊對（overlay）能力比現行 EUV 系統提升 70%，能達成業界未來對於幾何式晶片微縮（geometric chip scaling）的要求。
「這是一個好的開始，我們也樂觀預期 2018 年 ASML 將在業績和獲利能力持續穩健成長。」溫彼得說。
第一季產品重點摘要
深紫外光（DUV）微影：最新的 NXT 機台已達每天曝光 6,000 片晶圓的產能里程碑，支援客戶量產需求。
全方位微影方案（Holistic Lithography）：本季已完成採用多重電子束技術（multiple e-beam）的圖案缺陷量測（pattern fidelity metrology）系統──ePfm5 出貨。該系統是 ASML 收購漢微科後共同研發的產品，具更高解析度以檢測系統缺陷。這項創新的電子束量測系統和 ASML 的運算式微影（Computational Lithography）軟體結合，能在實際製造晶片的過程中，即時提供電子束的反饋給微影系統。ASML 也已經證實多重電子束能進一步提升電子束量測的產能，應用於量產階段。
極紫外光（EUV）微影 : 吞吐量（throughput）持續提升，在一個客戶端的測試，達每小時曝光 125 片晶圓的量產里程碑，同時在 ASML 的實驗室展現每小時曝光 140 片晶圓的實力。
展望 2018 年第二季，ASML 預估整體銷售淨額可達 25~26 億歐元，毛利率約落在 43%，反映 EUV 業務的強勁成長。研發投資金額提高到 3.75 億歐元，而管銷費用（SG&A）支出則約 1.15 億歐元，目標年化稅率約 14%。
配息（Dividend）及新一波股票回購（Share Buyback）計畫
ASML 已向董事會提出配息方案建議，每股配息 1.4 歐元（總計6 億歐元），並訂於 25 日召開年度股東會。2016 年的配息為每股 1.2 歐元。
ASML 在 2018 年 1 月宣布劃繼續透過股息配發和股票回購計畫將現金回饋給股東。股票回購部分，ASML 計劃在 2018~2019 年收購以 25 億歐元為上限的股票。這些收購的股票中，最多有 240 萬股將用於員工認股計畫，其餘註銷。截至 2018 年 4 月 1 日，ASML 已收購 100 萬股，約價值 1.7 億歐元。
（首圖來源：ASML）
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