日本半導體(晶片)設備銷售超旺,8 月銷售額飆增近四成,創下單月歷史空前新高紀錄,今年 1~8 月銷售額大增近三成破紀錄,日本晶片設備股今日股價逆勢走揚。 繼續閱讀..
日本晶片設備銷售超旺,8 月飆增四成創歷史新高 |
作者 MoneyDJ|發布日期 2022 年 09 月 28 日 9:50 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片 |
ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。