
在當今的高效能晶片設計中,熱管理成為一個日益嚴峻的挑戰。現代晶片內部擁有數十億個電晶體
,但由於熱點的存在,這些電晶體無法同時運作,導致高達 80% 的電晶體必須保持關閉,這個現象被稱為「暗矽」(dark silicon)。
為了解決這一問題,明尼蘇達州聖保羅的新創公司Maxwell Labs提出一種革命性的技術:光子冷卻(photonic cooling),這種技術能夠將熱量直接轉換為光,實現晶片的內部冷卻。
Maxwell Labs專攻雷射冷卻技術,公司的共同創辦人兼首席成長長Mike Karpe及執行長Jacob Balma在技術開發中扮演重要角色。傳統的冷卻方法,如空氣和液體冷卻,主要依賴於將熱量從晶片表面移走,這種方法在未來晶片的高功率密度下面臨瓶頸。Maxwell Labs的光子冷卻技術則透過在晶片上方放置極純淨的砷化鎵(gallium arsenide,GaAs)薄膜冷卻板,利用雷射精確地針對熱點進行冷卻。這一過程中,雷射照射到冷卻板上,激發出一種稱為反斯托克斯(anti-Stokes)螢光的現象,進而實現冷卻。
這項技術的核心在於其能夠在晶片上即時檢測熱點,並將雷射精確地指向這些熱點,大幅提高冷卻效率。初步實驗顯示,這種光子冷卻系統的冷卻能力是傳統空氣和液體冷卻系統的兩倍,這將使得晶片的所有功能單元能夠同時運作,解決暗矽問題。
此外,光子冷卻技術還能夠使晶片的運行溫度保持在50°C以下,這將使得晶片的時鐘頻率大幅提升,進一步推動摩爾定律的發展。Maxwell Labs的研究團隊正在與新墨西哥大學、桑迪亞國家實驗室及美國陸軍研究實驗室等機構合作,開發出更高效的光子冷卻材料,並計劃在2027年前在高效能運算和人工智慧訓練集群中實現早期應用。
隨著光子冷卻技術的進一步發展,未來的資料中心將能夠在不增加電晶體密度的情況下,顯著提高運算能力,並降低能源消耗。這項技術不僅能夠改變晶片的設計規則,還可能成為推動運算技術進步的關鍵因素。
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(首圖來源:shutterstock)