台積電晶圓良率提升的秘密武器──奈米微粒監控系統 作者 TechNews|發布日期 2015 年 11 月 13 日 12:30 | 分類 晶片 , 軟體、系統 , 零組件 | edit 在半導體濕式製程中，晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行，而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案（pattern）的製程結果，必須持續監控溶液中粒子的大小及數量，只要發現溶液粒子不符規格，就必須馬上暫停及更換，才能維持產品良率。 繼續閱讀..
