高功率脈衝磁控濺射(HiPIMS)最近取得重要進展,新技術暫稱為「電子浴」,有潛力改變晶片生產,並提高微電子元件製造效率和精確度。 繼續閱讀..
或改變晶片製造的新技術「電子浴」,解決薄膜電子學挑戰 |
作者 TechNews 編輯台|發布日期 2025 年 08 月 04 日 12:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |
或改變晶片製造的新技術「電子浴」,解決薄膜電子學挑戰 |
作者 TechNews 編輯台|發布日期 2025 年 08 月 04 日 12:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit |
高功率脈衝磁控濺射(HiPIMS)最近取得重要進展,新技術暫稱為「電子浴」,有潛力改變晶片生產,並提高微電子元件製造效率和精確度。 繼續閱讀..