超導半導體聖杯實現!科學家首製備出具超導性的鍺

作者 | 發布日期 2025 年 10 月 31 日 18:14 | 分類 奈米 , 尖端科技 , 材料 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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超導半導體聖杯實現!科學家首製備出具超導性的鍺

長期以來,科學家一直追求直接將普通半導體變超導體,但半導體與超導體材料屬不同領域,融合兩者特性並應用於現代製程極具挑戰性。直到最近,一個國際團隊首次成功使關鍵半導體材料鍺具備超導性,有望大幅推進無線通訊、低耗能電子運算技術發展。

傳統半導體(如矽、鍺)具良好電子控制能力,是現代資訊與運算基石,超導體則為最有效率載流材料。數十年來,科學家一直試圖使矽、鍺等半導體實現超導性,既不會造成能量損失,還能大幅提高電子設備速度、效率。

但半導體、超導體的晶格結構、電子傳輸性質存在根本性差異,半導體能帶結構使電子在常溫下導電性有限,需額外激發或摻雜其他元素才能提升導電性,超導體則要求大量電子形成庫珀對並凝聚,這對載流子密度遠低於典型金屬的半導體來說極難辦到。

想讓半導體材料進入零電阻超導狀態,需改變它們的原子排列結構以增加可傳導的電子數量,同時保持結構高純度,再引入大量電子使電子配對、在晶格中毫無阻力移動——眾所周知,這過程很難在原子尺度上進行微調,加上鍺、矽都是具類金剛石晶體結構的 IV 族元素,以穩定性和靈活性聞名,結構或晶格成分稍有偏差就很難形成所需超導電子態。

引領量子設備世代

科學家通常利用「摻雜」技術改變半導體電氣行為,一般來說,高含量鎵會破壞晶體穩定性,從而阻礙超導性,但紐約大學、昆士蘭大學等機構組成的團隊開發一種新型鍺薄膜,使用分子束磊晶(Molecular beam epitaxy,MBE)方法將鎵原子精確融入鍺晶格,成功使材料在 3.5K 超低溫下無阻傳導電流,在維持結構穩定與純度的前提下,讓半導體「晉升」超導行列。

鍺如今已是先進半導體技術主力材料,廣泛應用於電腦晶片、光纖領域,這項研究工作強調,科學家終於能控制使半導體材料出現超導性所需的結構精度,為下一代量子電路、低功耗低溫電子元件、量子運算技術揭開新時代。

新論文發表在《自然奈米技術》(Nature Nanotechnology)期刊。

(首圖來源:紐約大學

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