在挪威卑爾根，Lace Lithography 這家新創公司於今年 3 月成功籌集了 4,000 萬美元的 A 輪資金，這筆資金由 Atomico 領投，並獲得了微軟 M12 風投部門、Linse Capital、Nysnø 以及西班牙技術轉型協會的參與。Lace Lithography 專注於開發氦原子束微影技術，這項技術使用的氦束寬度僅為 0.1 奈米，這是 ASML 的極紫外光（EUV）光束的 135 倍窄，能夠刻畫出比現有系統小 10 倍的晶片特徵，這可能會延續摩爾定律，特別是在下一代人工智慧硬體的需求上。
Lace Lithography成立於2023年7月，由卑爾根大學的物理學家博迪爾·霍爾斯特（Bodil Holst）及其前博士生Adria Salvador Palau共同創立。Holst的背景涵蓋奈米級成像、二維材料及分子束微影研究，目標是挑戰ASML在先進微影工具市場的近乎壟斷地位，這些工具的價格超過3.5億美元。
這項氦原子束技術能夠實現原子級的圖案化，遠超過EUV的波長限制，並滿足對於人工智慧晶片中更密集電晶體的需求，尤其是在地緣政治推動半導體多元化的背景下。Lace已經建造了原型系統，並計劃在2029年之前在試點工廠中部署測試工具，這一計畫是在今年2月的微影峰會上提出的。
Holst表示：「這項技術可能擴展設計的路線圖，並使目前系統無法實現的設計成為可能。」這項技術的潛力被認為能夠重塑半導體製造業。隨著人工智慧需求和供應鏈問題推動投資，Lace正處於這個高風險行業的競爭者行列，面對實驗室突破需要轉化為生產的挑戰。
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（首圖來源：shutterstock）
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