Tag Archives: EUV

新闢建園區將有 50 個足球場大,ASML 大規模擴產開始進行

作者 |發布日期 2025 年 05 月 09 日 7:00 | 分類 公司治理 , 半導體 , 材料、設備

根據 Tom’s Hardware 的報導,總部位於荷蘭,而且在全球先進半導體製造設備設計與供應領域中無可爭議的龍頭企業-艾司摩爾 (ASML),似乎已加速推進其擴產計畫。報導引用來自 Tweakers.net 和 ED 等荷蘭主流新聞媒體的消息指出,艾司摩爾在與恩荷芬 (Eindhoven) 市政府官員共同進行的都市發展計畫初始簡報中表示,公司的員工將於 2028 年遷入其位於恩荷芬附近全新的 Brainport Industries Campus。

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ASML 第一季營收與訂單金額均下滑,引發半導體市場衰退憂慮

作者 |發布日期 2025 年 04 月 16 日 15:40 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 發布 2025 年第一季財報,第一季銷售淨額 (net sales) 為 77億歐元,淨收入為 (net income) 24 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 54%,第一季訂單金額為 39 億歐元,其中 12 億歐元為 EUV 訂單。

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荷蘭政府不再揭露 ASML 中國銷售資訊,防止追溯特定公司

作者 |發布日期 2025 年 01 月 22 日 12:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易

路透社報導,荷蘭政府 2023 年9 月起不揭露微影曝光大廠艾司摩爾 (ASML) 中國銷售狀況。此政策從未報導,原因是備受關注,因荷蘭政府以往會公布有潛在軍事用途的「兩用」商品出口資訊。此政策施行後,代表靠此數據了解各國軍事能力的專家與單位,不能再掌握詳細狀況。

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科林研發宣布新乾式光阻技術,可建立 28 奈米間距的高解析度圖案化

作者 |發布日期 2025 年 01 月 17 日 10:02 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備

科林研發( Lam Research)宣布其創新的乾式光阻(dry resist)技術可直接印刷 28 奈米間距之後段(BEOL)邏輯製程,適用於 2 奈米以下先進製程,現已獲得在奈米電子與數位技術領域中,極具領導地位的研究與創新中心 imec 所認證。 繼續閱讀..