Tag Archives: EUV

ASML 2022 年營收預估成長 20%,陸行之:以台積電資本支出計嫌保守

作者 |發布日期 2022 年 01 月 20 日 12:40 | 分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 19 日發表財報及 2022 年首季財測,前外資知名分析師陸行之指出,ASML 對 2022 年首季財測低於市場預期,原因會否是韓系記憶體大廠因記憶體跌價,希望延遲付款?也提出五大觀點,觀察接下來半導體市場的趨勢。

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英特爾搶先台積電下訂業界首部新世代 EUV,強化與 ASML 技術合作

作者 |發布日期 2022 年 01 月 19 日 22:30 | 分類 IC 設計 , 晶片 , 材料、設備

為推動尖端半導體微影技術發展,微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 與處理器龍頭英特爾於台北時間 19 日晚間宣布長遠合作的最新發展,為雙方長遠高數值孔徑合作案的框架內容,英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單。這款具備 High-NA 極紫外光(EUV)大量生產系統,每小時有 200 片以上晶圓產能。

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ASML 2021 年毛利率 52.7% 高於台積電,預計 2022 年營收再增 20%

作者 |發布日期 2022 年 01 月 19 日 17:00 | 分類 材料、設備 , 財報 , 財經

全球半導體微影技術及曝光機生產廠商艾司摩爾 (ASML) 今日發表 2021 年第四季及全年財報。2021 年第四季銷售淨額 (net sales) 為 50 億歐元,淨收入 (net income) 為 18 億歐元,毛利率 (gross margin) 到 54.2%,新增訂單金額 71 億歐元。累計 2021 年全年營收達 186 億歐元,淨收入 59 億歐元,毛利率 52.7%。

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ASML 德國柏林廠火災,恐衝擊 EUV 光學零組件供應

作者 |發布日期 2022 年 01 月 05 日 14:10 | 分類 光電科技 , 晶圓 , 記憶體

ASML 德國柏林工廠 3 日發生火警。ASML 為晶圓代工及記憶體生產關鍵設備機台(含 EUV 與 DUV)最大供應商,TrendForce 初步了解,占地 32,000 平方公尺的柏林廠區,約 200 平方公尺廠區受火災影響,主要製造光刻機光學零組件,如晶圓台、光罩吸盤和反射鏡,固定光罩的光罩吸盤處於緊缺狀態。零組件以供應 EUV 機台較多,且以晶圓代工需求占多數。若屆時因火災使零組件交期延後,不排除 ASML 將優先分配主要產出支援晶圓代工訂單的可能性。

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下世代高數值孔徑 EUV 售價逾 80 億元,屆時再掀資本支出大戰

作者 |發布日期 2021 年 12 月 22 日 15:00 | 分類 晶圓 , 材料、設備 , 財經

半導體先進製程關鍵之一就是曝光設備,原因是一方面曝光設備佔所有先進製程製造設備成本 22% 左右,也佔製造工時 20% 左右。另一方面全球僅荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產先進極紫外光曝光設備 (EUV),EUV 又是進入 10 奈米以下先進製程的必備關鍵。半導體製造商要跨入先進製程,向 ASML 採購 EUV 曝光設備就必不可少。

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SK 海力士以 EUV 擴產中國無錫廠碰壁,傳美國不准

作者 |發布日期 2021 年 11 月 18 日 14:50 | 分類 材料、設備 , 記憶體 , 財經

《路透社》報導,美中科技戰影響下,衝擊到南韓記憶體製造商 SK 海力士中國無錫廠擴產計畫。原本 SK 海力士希望中國無錫廠採用含極紫外光曝光設備 EUV 先進製程生產記憶體,以因應市場需求,然而美國政府限制 EUV 設備進入中國,擴產計畫陷入膠著。

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ASML 登上全球半導體曝光設備龍頭,兩個轉捩點都與台積電有關

作者 |發布日期 2021 年 11 月 18 日 12:10 | 分類 公司治理 , 晶圓 , 晶片

外媒報導,半導體製程一家獨大的極紫外光曝光設備 (EUV) 廠商艾司摩爾 (ASML),幾乎成為各半導體製造商發展不可或缺的夥伴,尤其 10 奈米以下先進製程,沒有 EUV 協助幾乎不能做。ASML 如何爬上龍頭之位,有兩個關鍵轉捩點。

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蔣尚義這次真倦勤,中芯國際證實董事會已批准辭呈

作者 |發布日期 2021 年 11 月 11 日 19:10 | 分類 人力資源 , 公司治理 , 晶圓

2020 年 12 月中國最大晶圓代工廠中芯國際邀請前台積電共同營運長蔣尚義回鍋擔任副董事長,引起聯合執行長梁孟松不滿,傳出提辭呈的消息,時隔不到一年,市場再度傳出蔣尚義向中芯國際提出辭呈,等待董事會通過,震撼兩岸半導體業界。

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向 ASML 訂購 DUV 曝光設備遲未到貨,中芯國際擴產計畫前景堪慮

作者 |發布日期 2021 年 11 月 09 日 6:00 | 分類 國際觀察 , 國際貿易 , 材料、設備

雖然曝光設備龍頭艾司摩爾 (ASML) 表示,除了極紫外光曝光設備 (EUV) 其他設備都可賣給中國客戶,但中國最大晶圓代工商中芯國際延長的採購協議日期將在年底到期,之前訂購的深紫外光曝光設備 (DUV) 仍未出貨,外界認為,不論零組件缺貨或其他政治因素,中芯國際訂單恐將落空。

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