115 年大學學測今日登場，首日的自然科考題意外引發熱議，因為第 47 至 49 題的題組中，考題背景直接帶進半導體先進製程的核心技術，13.5 奈米的 EUV（極紫外光）微影。
高中畢業前請確定已接軌先進製程？EUV 極紫外光現身學測自然科考題 |
作者
邱 倢芯|發布日期
2026 年 01 月 17 日 21:16 |
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Tag Archives: EUV
開創生醫應用新局，imec 靠 ASML EUV 設備成功實現晶圓級奈米孔 |
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作者
林 妤柔|發布日期
2025 年 12 月 22 日 13:33 |
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比利時微電子研究中心（imec）已成功展示利用 ASML 最先進的極紫外光（EUV）微影設備，實現晶圓級規模的奈米孔製作技術。ASML 傳播主管形容，由於奈米孔在分子感測領域展現的巨大潛力，這是 ASML 設備「出乎意料卻非常令人驚豔的生醫應用」。 繼續閱讀..
Imec 展示首次利用 EUV 微影實現的固態奈米孔的晶圓級製造 |
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作者
PR Newswire|發布日期
2025 年 12 月 14 日 14:00 |
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Imec 成功實現了首次在 300 毫米晶圓上利用 EUV 微影技術進行固態奈米孔的晶圓級製造。這項創新將奈米孔技術從實驗室規模的概念，轉化為用於生物感測、基因組學和蛋白質組學的可擴展平台。
ASML 成最強「卡脖子」環節，決定 AI 晶片產能天花板 |
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作者
TechNews 編輯台|發布日期
2025 年 12 月 12 日 16:45 |
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在當今的科技生態系統中，ASML的曝光機扮演著至關重要的角色，尤其是在人工智慧（AI）晶片的生產上。這家荷蘭公司以其極紫外光（EUV）系統聞名，這些系統使得晶圓廠能夠印刷出越來越小且複雜的電晶體圖案，這對於高效能的 AI 加速器和記憶體晶片至關重要。根據彭博社的報導，ASML 的技術幾乎在現代 AI 晶片行業中形成壟斷地位，使得它成為歐洲最有價值的公司。 繼續閱讀..
大日本印刷推出 1.4 奈米壓印模板，助 Canon 擴大先進製程 |
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作者
蘇 子芸|發布日期
2025 年 12 月 10 日 11:00 |
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根據日經報導，大日本印刷（DNP）宣布開發出可支援 1.4 奈米邏輯製程的奈米壓印（Nanoimprint Lithography, NIL）模板技術，能大幅降低先進半導體製造的電力消耗，預計可將相關曝光流程所需能耗壓至傳統方式的約十分之一，並計劃自 2027 年起量產，並供佳能（Canon）NIL 設備應用。
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為什麼有了極致先進 EUV，半導體製程仍對 DUV 不可或缺？ |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 27 日 11:00 |
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全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)日前在一場公開活動中，公布了其新一代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV，HNA）微影技術的最新進展與市場採用狀況，目的在消除市場對其技術成功性的疑慮。而且，ASML 也宣布，已在總部設立 HNA 專門組織並投入運作。
