Imec 展示首次利用 EUV 微影實現的固態奈米孔的晶圓級製造 |
作者
PR Newswire|發布日期
2025 年 12 月 14 日 14:00 |
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Imec 成功實現了首次在 300 毫米晶圓上利用 EUV 微影技術進行固態奈米孔的晶圓級製造。這項創新將奈米孔技術從實驗室規模的概念，轉化為用於生物感測、基因組學和蛋白質組學的可擴展平台。
ASML 成最強「卡脖子」環節，決定 AI 晶片產能天花板 |
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作者
TechNews 編輯台|發布日期
2025 年 12 月 12 日 16:45 |
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在當今的科技生態系統中，ASML的曝光機扮演著至關重要的角色，尤其是在人工智慧（AI）晶片的生產上。這家荷蘭公司以其極紫外光（EUV）系統聞名，這些系統使得晶圓廠能夠印刷出越來越小且複雜的電晶體圖案，這對於高效能的 AI 加速器和記憶體晶片至關重要。根據彭博社的報導，ASML 的技術幾乎在現代 AI 晶片行業中形成壟斷地位，使得它成為歐洲最有價值的公司。 繼續閱讀..
大日本印刷推出 1.4 奈米壓印模板，助 Canon 擴大先進製程 |
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作者
蘇 子芸|發布日期
2025 年 12 月 10 日 11:00 |
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根據日經報導，大日本印刷（DNP）宣布開發出可支援 1.4 奈米邏輯製程的奈米壓印（Nanoimprint Lithography, NIL）模板技術，能大幅降低先進半導體製造的電力消耗，預計可將相關曝光流程所需能耗壓至傳統方式的約十分之一，並計劃自 2027 年起量產，並供佳能（Canon）NIL 設備應用。
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為什麼有了極致先進 EUV，半導體製程仍對 DUV 不可或缺？ |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 27 日 11:00 |
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全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)日前在一場公開活動中，公布了其新一代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV，HNA）微影技術的最新進展與市場採用狀況，目的在消除市場對其技術成功性的疑慮。而且，ASML 也宣布，已在總部設立 HNA 專門組織並投入運作。
傳出曾提議為美國政府監控中國客戶，ASML 否認 |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 24 日 8:00 |
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全球半導體製造設備巨擘，荷蘭的曝光機設備大廠 ASML 近日被一本新書揭露曾做出驚人提議，就是在違反美國和荷蘭達成的對中國曝光機銷售限制後，ASML 曾經向美國政府表示，願意做為「華盛頓在中國的耳目」，刺探其中國客戶的內部發展情報。
半導體製程 EUV 王朝難撼動，Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 04 日 12:30 |
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在半導體製造的最前線，曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光（DUV）與極紫外光（EUV）兔光機，建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而，日本光學大廠佳能（Canon）正嘗試以另一條路徑突圍，那就是奈米壓印 （Nanoimprint Lithography，NIL）。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術，正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。
