Tag Archives: EUV

中國逆向工程 ASML DUV 曝光機，拆壞了還要求原廠協助
作者 |發布日期 2025 年 10 月 21 日 16:00 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

美中兩大強權在人工智慧（AI）領域的主導權競爭日益白熱化，高階晶片已成為這場新冷戰的核心戰場。自2018年美國對中國實施嚴厲的晶片銷售制裁以來，已對中國的高科技發展造成了真實且深遠的影響。根據近日的一項報導揭露，中國在對荷蘭 ASML 公司生產的曝光設備進行逆向工程時，疑似造成設備損壞，最終不得不向原廠尋求技術支援。

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台積電公開亞利桑那州廠「銀色高速公路」影片，EUV 生產輝達 AI 晶片全程曝光
作者 |發布日期 2025 年 10 月 20 日 9:00 |
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分類 AI 人工智慧 , 半導體 , 晶圓

台積電（TSMC）近日上傳一支罕見飛行影片，展示美國亞利桑那州 Fab 21 工廠運作，讓外界一窺 N4 / N5 製程。可看到數百台高科技設備製造晶片，特別是 ASML 極紫外光（EUV）曝光機，負責生產輝達（Nvidia）Blackwell B300 處理器等複雜電路。 繼續閱讀..

台積電啟動 EUV 動態節能計畫，EUV 最大功耗降低 44%
作者 |發布日期 2025 年 10 月 02 日 10:00 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

做為全球最大的晶圓代工廠，台積電的營運消耗了龐大的電力，約占台灣總用電量的 9%。 為了有效降低營運成本，並實現其永續發展目標，台積電於 2025 年 9 月啟動了一項名為「EUV 動態節能計畫」（EUV Dynamic Energy Saving Program），該計畫目的在於大幅削減以高耗電量著稱的極紫外光（EUV）曝光機的功耗。根據最新公布的成果，這項節能措施已顯示出顯著成效。

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曝光機需求優於預期，2027 年 ASML 將交貨 10 套 High-NA EUV 和 56 套 EUV
作者 |發布日期 2025 年 09 月 26 日 15:30 |
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分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

隨著人工智慧（AI）浪潮帶動了半導體產業的發展，投資機構對 ASML 產品的長期需求仍保持樂觀，因為這些 AI 半導體普遍採用最新的半導體製造技術。雖然不少半導體製造商都延後引入新一代 High-NA EUV。但是從整體來看，市場對曝光設備的需求仍處於上升趨勢。

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名副其實「工具人」！台積電提升 ASML EUV 效率，六年晶圓產量增加 30 倍
作者 |發布日期 2025 年 09 月 19 日 7:40 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

台積電（TSMC）提升 ASML 極紫外光（EUV）曝光機效率取得重大進展，2019 年以來，台積電以系統級最佳化及自研薄膜材料，使 EUV 生產晶圓產量增加 30 倍，同時電力消耗減少 24%。身為全球最大 EUV 用戶，台積電有約 200 台機台，2024~2025 年再新增 60 多台，支撐先進製程擴產需要。 繼續閱讀..

你不知道的新創企業新凱來與宇量昇，在中國半導體自主扮演重要角色
作者 |發布日期 2025 年 09 月 17 日 14:30 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

美國對中國半導體技術實施嚴格出口管制的背景下，中國正以前所未有的決心，試圖突破技術封鎖，實現晶片製造的全面自主化。這場史詩般的科技競賽中，華為扮演著核心推動者的角色，而像新凱來（SiCarrier）與宇量昇科技這樣的本土新創企業，則成為其攻克先進晶片製造技術的關鍵武器。這些企業不僅獲得了政府的鼎力支持，更在華為的深度參與下，劍指全球半導體巨頭，試圖改寫全球晶片產業的格局。

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從 EUV 心臟到創新基地，看蔡司半導體如何在台灣養成國際級工程師
作者 |發布日期 2025 年 08 月 18 日 9:00 |
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分類 人力資源 , 半導體

你可能對艾司摩爾（ASML）公司那台要價新台幣數十億元、甚至上百億元的 EUV（極紫外光）微影設備不陌生。但你可能不知道，這台備受矚目的機器中有一項關鍵技術——「光學反射鏡」，而提供這項技術的是蔡司半導體（ZEISS SMT），為擁有 179 年歷史的德國蔡司集團旗下半導體事業部。 繼續閱讀..