台積電表態「太貴」不用 ASML 連跌、分析師喊別慌

台積電表態暫不購買「高數值孔徑」（High-NA）極紫外光（EUV）機台這種昂貴設備，引起市場矚目、也衝擊荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）股價連日走軟。不過，分析人士認為，這不會對 ASML 造成結構性影響。

MarketWatch 23日報導，瑞銀（UBS）分析師Francois-Xavier Bouvignies認為，這只是「一時」的逆風，而非產業出現結構性變化。

Bouvignies表示，瑞銀先前估計，到了2030年底，High-NA EUV機台對整體微影設備的銷售額占比將達15~20%。他強調，ASML仍擁有「獨特的壟斷地位」，且在晶圓廠設備（WFE）市場的占有率持續增加。

花旗由Andrew Gardiner帶領的分析師團隊，在一份巧妙標為「似曾相識的EUV」（Deja EUV all over again）報告中提到，台積電業務開發及海外營運辦公室資深副總經理張曉強（Kevin Zhang），過去幾年對於採用這項產品的態度都同樣謹慎。

Gardiner表示，「ASML的其他客戶，如英特爾（Intel）及三星電子（Samsung Electronics），對High-NA設備的效能評價更正面、採納的態度也更積極。我們原先就預計，直到2028年為止High-NA設備的出貨趨勢都不會太明顯，預計要等到2029年以後，產量目標才會明顯提升。」

ASML 23日終場下跌1.79%、收1,417.80美元，創4月16日以來收盤新低，已連續第3個交易日走跌。

路透社報導，台積電週三（22日）舉辦2026年北美技術論壇，展示了最新一代的晶片製造關鍵技術。針對最新技術，台積電計劃從ASML現有的EUV微影機台擠出更多效益，而非轉向新一代High-NA EUV機台。新一代機台單台造價高達4億美元，約為現有機型的兩倍。

張曉強當時受訪時表示，「我們的研發團隊在發揮現有EUV技術價值方面做得極出色，同時還制定了積極的技術微縮藍圖。這絕對是優勢所在。」

（本文由 MoneyDJ新聞授權轉載；首圖來源：shutterstock）