Tag Archives: ASML

ASML 年第二季淨利達 10 億歐元,預估全年營收成長 35%

作者 |發布日期 2021 年 07 月 21 日 15:30 | 分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

全球半導體微影技術大廠艾司摩爾 (ASML) 21 日發表 2021 年第二季財報,銷售淨額 (net sales) 為 40 億歐元,淨收入 (net income) 為 10 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 50.9%,新增訂單金額 83 億歐元。ASML 同時公布第三季財測,預估淨收入約 52 億到 54 億歐元,毛利率約 51%~52%。

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歐盟欲斥資 1,450 億歐元發展先進半導體製程,但廠商興趣缺缺

作者 |發布日期 2021 年 07 月 03 日 15:50 | 分類 晶圓 , 晶片 , 科技政策

在當前全球晶片荒的情況之下,世界主要國家和地區都在積極發展,其中歐盟方面也希望在先進製程上分一杯羹。不過,針對歐盟積極發展半導體先進製程的雄心壯志,歐盟內部的相關晶片廠商則似乎並不賞臉,直指歐盟發展先進製程沒有市場。

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挑戰三星、SK 海力士市場地位,美光開始規劃導入 EUV 曝光設備

作者 |發布日期 2021 年 07 月 03 日 10:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 記憶體

就在之前包括三星、SK 海力士等南韓記憶體大廠開始啟用 EUV 曝光設備進行記憶體的生產之後,現在美商美光科技現在準備也要加入採用 EUV 曝光設備的生產行列了。根據日前美光在財報會議上所說的,目前美光正跟 EUV 曝光大廠 ASML 展開採購談判工作,預計 2024 年將開始生產採用 EUV 曝光設備所生產記憶體。

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ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世

作者 |發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 記憶體

極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。

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日經:三星先進製程遲遲趕不上台積電,恐拖累整體產品市場競爭力

作者 |發布日期 2021 年 05 月 10 日 15:50 | 分類 IC 設計 , Samsung , 中國觀察

《日本經濟新聞》報導,疫情流行的 2020 年秋天,三星電子副會長李在鎔仍堅持前往荷蘭拜會供應商艾司摩爾 (ASML)。原因在於 ASML 生產的曝光機,是半導體生產製程不可或缺的設備。過去與競爭對手台積電競爭購買 ASML 曝光機過程,三星一直處於劣勢,這也成為三星先進製程發展一直不如台積電,甚至與台積電的落差越來越大。

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晶片荒下艾司摩爾將公布首季財報,美國收緊出口中國成發展關鍵

作者 |發布日期 2021 年 04 月 21 日 8:30 | 分類 材料、設備 , 財報 , 財經

上週晶圓代工龍頭台積電宣布 2021 年度資本支出推升至史上新高的 300 億美元,市場預估半導體設備廠未來都能受惠,投資人也都將眼光放到接下來的設備廠財報。全球最大半導體設備供應商艾司摩爾 (ASML) 預計美國時間 21 日公布首季財報,目前全球面臨晶片缺乏,艾司摩爾財報能透露什麼訊息,牽動全球半導體市場,投資人都引頸期待。

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尊重性別特質差異,半導體設備商 ASML 樹立平權職場環境

作者 |發布日期 2021 年 04 月 07 日 9:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 職場

作為全球最大半導體設備商,沒有它,全球半導體製造廠的先進製程都無法運行,ASML 能在技術上不斷創新與保持領先,除了投入的各項資源外,企業內部的多元包容文化所扮演角色同樣關鍵。ASML 透過吸納來自不同領域、背景的人才,以及縮減兩性員工比重差距,持續激發創新動力。
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