Tag Archives: ASML

武漢肺炎疫情導致 3 大關鍵因素衝擊,ASML 下修 2020 年首季財測

作者 |發布日期 2020 年 03 月 31 日 15:30 |
分類 國際貿易 , 材料、設備 , 財經

就在武漢肺炎疫情衝擊全球經濟的當下,全球許多大型科技公司紛紛調降財測。而日前已經發布過 2019 年第 1 季財測數字的台積電重要供應商──光刻機大廠艾司摩爾(ASML)表示,雖然 2020 年的整體需求並沒有減少,而且武漢肺炎疫情對 ASML 的產能影響有限。但是,在 3 大因素的干擾下,ASML 還是必須下修 2020 年第 1 季的財務預測。

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家登 2 月營收創一年新低,半導體業務則是年成長 135%

作者 |發布日期 2020 年 03 月 10 日 10:10 |
分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

半導體設備商家登 10 日公布 2020 年 2 月份營收報告,合併營收約為新台幣 1.13 億元,較 1 月份的 1.43 億元下滑 20.9%,較 2019 年同期的 0.81 億元成長 28%,營收為近一年來新低。其中,半導體本業佔 1.02 億元,跟 2019 年同期 0.43 億元相比,成長約 135%。

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滿足台積電三星先進製程,ASML 支援 3 奈米光刻機估 2021 年問世

作者 |發布日期 2020 年 02 月 18 日 13:30 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

晶圓代工龍頭台積電於 2020 年正式量產 5 奈米製程,競爭對手三星也隨後追趕當下,更先進的 3 奈米製程目前兩家公司也都在積極研發。這些先進半導體製程能研發成功,且讓未來生產良率保持一定水準之外,光刻機絕對是關鍵。就台積電與三星來說,最新極紫外光刻機(EUV)早就使用在 7 奈米製程,未來 5 奈米製程也會繼續沿用。更新的 3 奈米製程,目前光刻機龍頭──荷蘭商艾司摩爾(ASML)也正研發新一代極紫外光刻機,以因應市場需求。

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半導體產業爭霸賽誰能勝出?關鍵仍在光學技術

作者 |發布日期 2020 年 02 月 05 日 8:45 |
分類 光電科技 , 材料、設備 , 零組件

荷蘭政府近日根據瓦森納國際協議(Wassenaar Arrangement),禁止 ASML 公司向中國出口極紫外光刻機(Extreme Ultraviolet,EUV Lithography);中國駐荷蘭大使反嗆要以中荷關係為要脅,要求荷蘭政府取消禁令。光刻設備是半導體製程中最重要的設備,全球又僅有 ASML 能提供最高階的光刻設備,美國要求荷蘭政府禁止 ASML 向中國輸出這設備,可說是掐住中國半導體產業的咽喉。半導體產業爭霸賽的關鍵,無疑就是光刻設備需要仰賴的「光學技術」。

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中國駐荷蘭大使放話,阻擋 ASML 光刻機出口中國將損及雙邊關係

作者 |發布日期 2020 年 01 月 16 日 11:15 |
分類 中國觀察 , 國際貿易 , 材料、設備

據媒體之前報導,在美國政府壓力下,荷蘭政府已暫緩全球光刻機大廠艾司摩爾(ASML)向中國出口最新機器的許可證。對此,中國駐荷蘭大使放話,如果荷蘭不允許 ASML 出貨最新光刻設備給中國,將損害中國與荷蘭的貿易關係。

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EUV 市場供不應求,拉抬 ASML 取代應材將登全球半導體設備龍頭

作者 |發布日期 2019 年 11 月 27 日 9:00 |
分類 材料、設備 , 財經 , 零組件

根據外媒報導,已經蟬聯多年全球半導體設備龍頭的美商應材公司(Applied Materials),2019 年可能將其龍頭寶座,拱手讓給以生產半導體製造過程中不可或缺曝光機的荷蘭商艾司摩爾(ASML),原因是受惠即紫外光刻設備(EUV)的市場需求大增,進一步拉抬了 ASML 的市占率表現。

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一次搞懂瓦聖納協議,為何 ASML 出口中國需要荷蘭政府許可

作者 |發布日期 2019 年 11 月 07 日 15:20 |
分類 中國觀察 , 國際貿易 , 材料、設備

針對日媒報導,因為受到美國政府關切,全球最大半導體光刻設備供應商艾司摩爾(ASML)延後對中國晶圓代工企業中芯國際出貨一事,ASML 官方聲明,因為根據國際協定,出口前往中國的光刻設備必須有出口許可,目前舊許可到期的情況下,目前正在等待荷蘭政府重新審核出口許可,相關出口到中國的光刻機設備是「暫停出貨」, 並非媒體臆測的「延遲出貨」。

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ASML 延後中國企業訂單出貨,光刻設備恐淪為貿易戰武器

作者 |發布日期 2019 年 11 月 07 日 9:00 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

美中貿易戰的狀況,原本市場人士都預料將會有所和緩。不料,在日前傳出美國政府關切晶圓代工龍頭台積電供貨給中國華為,並希望限制供應的消息之後。雖然,整件事情遭到台積電官方的否認,但是相關事件仍持續發酵中。根據 《日經亞洲評論》 引用知情人士的消息報導指出,目前美國政府相關關切對中國企業供貨的態度,焦點也轉到了全球最大半導體光刻機供應商艾司摩爾 (ASML) 的身上,也就是 2018 年 4 月份,中國最大晶圓代工商中芯國際向 ASML 訂購的光刻機設備,目前正等待美國政府的批准,暫時延後出貨中。

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韓媒:台積電獨吞華為大單,三星離 2030 年成系統半導體龍頭漸遠

作者 |發布日期 2019 年 11 月 06 日 15:40 |
分類 Samsung , 中國觀察 , 國際貿易

日前傳出美國政府關切台灣晶圓代工龍頭台積電供貨給中國華為的事情,並希望能限制供貨。雖然此消息遭到了台積電的否認,但是後續的情勢仍在持續發酵中。根據南韓媒體《BusinessKorea》報導,市場人士指出,隨著中國華為與台積電之間的合作關係持續緊密的情況下,三星之前誓言要在 2030 年成為系統半導體領域的龍頭的機會也越來越渺茫。

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半導體先進製程發展擴大 EUV 市場需求,ASML 可望持續受惠

作者 |發布日期 2019 年 06 月 10 日 9:00 |
分類 光電科技 , 國際貿易 , 晶片

先進製程奈米節點持續微縮下,光刻機是重要關鍵設備。12 吋晶圓主要光刻機為 ArF immersion 機台,可涵蓋 45nm 一路往下到 7nm 節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到 193nm;針對 7nm 節點以下製程,EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長為 13.5nm,確保先進製程持續發展的可能性。 繼續閱讀..

EUV 設備每台重量高達 180 公噸,每次運輸必須動用 3 架次貨機

作者 |發布日期 2019 年 06 月 06 日 15:45 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 材料、設備

晶圓製造產業進入 7 奈米製程之後,目前全世界僅剩台積電與三星,再加上號稱自家 10 奈米製程優於競爭對手 7 奈米製程的英特爾等,有繼續開發能力之外,其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下,都已宣布放棄。就在 7 奈米製程節點以下先進製程的領域,必不可少的關鍵就是極紫外線微影(EUV)設備導入。除了三星用在首代 7 奈米 LPP 製程,台積電也自 2019 年開始,將 EUV 導入加強版 7 奈米+ 製程。

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晶片設備商艾司摩爾首季財報讚,台灣躍居最大市場

作者 |發布日期 2019 年 04 月 17 日 16:30 |
分類 材料、設備 , 財報 , 財經

歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾(ASML Holding NV)17 日發表 2019 年第 1 季(至 2019 年 3 月 31 日)財報:營收年減 2.5% 季減 29.1% 至 22.291 億歐元,優於 3 個月前預期的 21.0 億歐元;毛利率報 41.6%,低於 2018 年第 4 季的 44.3% 及 2018 年第 1 季的 48.7%,但高於 3 個月前預期的 40%;純益年減 34.2% 季減 55% 至 3.55 億歐元;淨訂單金額季減 11.9% 至 13.99 億歐元。根據 Thomson Reuters 調查,分析師預期艾司摩爾第 1 季營收、純益各為 21.2 億歐元、1.97 億歐元。 繼續閱讀..