Tag Archives: ASML

半導體先進製程發展擴大 EUV 市場需求，ASML 可望持續受惠
作者 |發布日期 2019 年 06 月 10 日 9:00 |
分類 光電科技 , 國際貿易 , 晶片

先進製程奈米節點持續微縮下，光刻機是重要關鍵設備。12 吋晶圓主要光刻機為 ArF immersion 機台，可涵蓋 45nm 一路往下到 7nm 節點的使用範圍，雷射光波長最小微縮到 193nm；針對 7nm 節點以下製程，EUV（Extreme Ultra-Violet）極紫外光使用光源波長為 13.5nm，確保先進製程持續發展的可能性。 繼續閱讀..

EUV 設備每台重量高達 180 公噸，每次運輸必須動用 3 架次貨機
作者 |發布日期 2019 年 06 月 06 日 15:45 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 材料、設備

晶圓製造產業進入 7 奈米製程之後，目前全世界僅剩台積電與三星，再加上號稱自家 10 奈米製程優於競爭對手 7 奈米製程的英特爾等，有繼續開發能力之外，其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。就在 7 奈米製程節點以下先進製程的領域，必不可少的關鍵就是極紫外線微影（EUV）設備導入。除了三星用在首代 7 奈米 LPP 製程，台積電也自 2019 年開始，將 EUV 導入加強版 7 奈米+ 製程。

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晶片設備商艾司摩爾首季財報讚，台灣躍居最大市場
作者 |發布日期 2019 年 04 月 17 日 16:30 |
分類 材料、設備 , 財報 , 財經

歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾（ASML Holding NV）17 日發表 2019 年第 1 季（至 2019 年 3 月 31 日）財報：營收年減 2.5% 季減 29.1% 至 22.291 億歐元，優於 3 個月前預期的 21.0 億歐元；毛利率報 41.6%，低於 2018 年第 4 季的 44.3% 及 2018 年第 1 季的 48.7%，但高於 3 個月前預期的 40%；純益年減 34.2% 季減 55% 至 3.55 億歐元；淨訂單金額季減 11.9% 至 13.99 億歐元。根據 Thomson Reuters 調查，分析師預期艾司摩爾第 1 季營收、純益各為 21.2 億歐元、1.97 億歐元。 繼續閱讀..

ASML 2018 年營收創新高，EUV 2019 年將出貨 30 台為成長主力
作者 |發布日期 2019 年 01 月 25 日 12:10 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

在晶圓龍頭台積電推向 7 奈米製程，甚至在 2020 年將要推出 5 奈米製程的情況下，極紫外光刻設備（EUV）就成為製程其中不可或缺的設備。而全球幾乎獨攬這項設備生產的荷蘭商艾司摩爾（ASML）也因為市場需求的持續不斷，使得 2018 年全年的營收創新高紀錄。

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傳中向美提 1 兆美元採購案，道瓊升高、週 K 連四紅
作者 |發布日期 2019 年 01 月 21 日 8:30 |
分類 財經

中美貿易談判連續兩個交易日傳出利多，帶動美國四大指數在週五（1/18）躍升至 6 週高，但英特爾（Intel Corp.）等重量級企業即將公布財報，仍讓投資人不敢輕舉妄動，市場交投顯得清淡。美國股市週一（1/21）因馬丁路德金紀念日（Martin Luther King Jr. holiday）休市一天。 繼續閱讀..

美國祭出司法制裁後，福建晉華供應商無預警撤出
作者 |發布日期 2018 年 11 月 28 日 8:00 |
分類 中國觀察 , 國際貿易 , 國際金融

美國 10 月 31 日禁止技術出口中國禁令發布，中國媒體報導，美國設備商應用材料（Applied Materials）的人員隨即開始打包，科磊（KLA-Tencor Corp.）和科林研發（Lam Research Corp.）也召回旗下工程師，就連掌握下一代半導體製程關鍵技術 EUV 的荷蘭廠商 ASML，也在幾天內撤出。 繼續閱讀..

艾司摩爾第一季營收表現強勁，全年前景樂觀
作者 |發布日期 2018 年 04 月 19 日 15:10 |
分類 晶片 , 材料、設備 , 財經

半導體微影技術廠商艾司摩爾（ASML）公佈 2018 第一季財報。ASML 第一季營收淨額（net sales）22.9 億歐元，淨收入 5.4 億歐元，毛利率（gross margin）為 48.7%。預估 2018 第二季營收淨額（net sales）將落在 25 億至 26 億歐元之間，毛利率（gross margin）約為 43%，反映 EUV 營收將大幅增加。 繼續閱讀..

艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭，預計積極增產
作者 |發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 |
分類 國際貿易 , 奈米 , 材料、設備

根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示，2017 年全球半導體光刻設備，荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭，其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%，以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。

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EUV 設備供不應求，使得 ASML 股價一年內大漲 30%
作者 |發布日期 2017 年 07 月 21 日 18:10 |
分類 國際貿易 , 晶片 , 材料、設備

受惠於各家晶圓代工廠，包括台積電、三星、格羅方德等企業紛紛宣布將在 2018 年導入 7 奈米先進製程的情況下，EUV 極紫外線光刻機在其中所扮演的關鍵角色就越來越重要。而目前做為光刻機的龍頭老大荷蘭艾斯摩爾 （ASML） 佔據著高達 80% 的市場佔有率，壟斷了高階光刻機的市場。過去，在 14 及 16 奈米製程階段，各家代工廠的及紫外線光刻機都是來自 ASML。因此，不但帶動了 2017 年 ASML 整體營收成長 25%，未來更被看好後續的發展狀況。

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三星計畫 2020 年推出 4 奈米製程，屆時與台積電 5 奈米製程競爭
作者 |發布日期 2017 年 05 月 25 日 10:30 |
分類 Samsung , 晶片 , 處理器

根據國外科技媒體《ExtremeTech》的報導，日前積極宣布準備拆分晶圓製造事業，並期望能在市場上一舉超越台積電的南韓三星，24 日舉辦了記者說明會，現場公佈了旗下最新的製程技術路線圖。根據規劃，在新的路線圖中，三星希望能在 2020 年推出 4 奈米製程技術，與屆時將推出 5 奈米製程的台積電一較高下。

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強勁市場需求帶動 ASML 第一季營收，EUV 系統未出貨訂單累計達 21 台
作者 |發布日期 2017 年 04 月 19 日 18:30 |
分類 晶片 , 財經

全球半導體微影技術廠商艾司摩爾（ASML）19 日公布 2017 第一季財報。ASML 第一季營收淨額（net sales）19.4 億歐元，毛利率（gross margin）為 47.6%，EUV 極紫外光微影系統的未出貨訂單則累積到 21 台，價值高達 23 億歐元。預估 2017 第二季營收淨額（net sales）將落在 19~20 億歐元之間，毛利率（gross margin）約為 43~44%。 繼續閱讀..