日本光學與半導體裝置大廠尼康（Nikon）新任社長大村康弘（Yasuhiro Ohmura）表示，公司提供比 ASML 更具競爭力的價格，積極推動半導體曝光設備業務重返成長軌道。
大村康弘今年 4 月正式上任，他接受日經採訪時表示，「我們許多零組件都是自行生產，在成本競爭方面具備優勢」。他亦透露，尼康目前正與多家美國及亞洲主要晶片製造商洽談新的氬氟化物（ArF）曝光設備訂單，且相關談判已接近進入採購訂單階段。
尼康與英特爾長期保持密切合作關係，英特爾曾一度貢獻尼康約 80% ArF 曝光設備訂單，但近年由於英特爾自身經營與製造業務面臨挑戰，尼康相關設備銷售也隨之陷入停滯。
大村康弘坦言，「除了英特爾之外，我們缺乏足夠的市場實績，而且我們的支援服務能力尚未獲得客戶充分信任」。談到如何與市場龍頭競爭，大村康弘認為，可以從價格競爭，即使以較低價格銷售，仍能維持相當可觀的利潤。
大村康弘認為，客戶為了控制昂貴設備所帶來的成本，通常更傾向維持兩家供應商，而非完全依賴 ASML 單一來源。
日經指出，尼康瞄準的是 ASML 並未完全壟斷的市場區塊。雖然 ASML 壟斷了極紫外光（EUV）曝光機，但 ArF 浸潤式（Immersion）曝光屬於成熟的深紫外光（DUV）技術，即便是 3 奈米晶片，大部分圖案化（Patterning）步驟仍需依賴這類設備完成。目前 ASML 高階 ArF 浸潤式曝光機平均售價約 8,250 萬美元，也為尼康提供更具有競爭力的價格。
目前全球能提供 ArF 曝光設備的廠商僅 ASML 與尼康兩家。尼康之所以積極向客戶推銷 ArF 設備，主因在於其曝光業務近年遭遇嚴重挫折。根據 TrendForce 引述資料顯示，尼康在截至 2024 年 3 月的會計年度僅出貨 11 台 ArF 曝光機，而在 2025 財年前三季更是零出貨；反觀 ASML，已牢牢掌握超過 80% 的全球曝光設備市場。
報導指，過去尼康曾與 ASML 在技術層面正面競爭。ASML 透過長期研發藍圖與供應鏈夥伴建立緊密合作關係，逐步鞏固技術優勢，並藉由獨家提供最先進曝光設備，建立起穩固的客戶基礎與市場領導地位。
在上一財年（截至今年 3 月底），尼康淨損達 860 億日圓（約 5.4 億美元），創下公司歷史最嚴重虧損紀錄，主因是半導體設備訂單疲弱及金屬 3D 列印業務表現不佳。對此，大村康弘表示，未來將聚焦於相機與半導體設備兩大核心業務，以提升公司競爭力。
隨著尼康 ArF 曝光設備市占率持續下滑，大村康弘強調的價格競爭策略能否成功吸引客戶回流，仍存在不確定性。
- Nikon to take on ASML with low-priced chipmaking equipment: CEO
- Nikon weaponizes lower prices to break ASML’s lithography monopoly — tech giant leverages in-house manufacturing to slash prices to lure back American chipmakers
（首圖來源：Nikon）
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