Tag Archives: Nikon

Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀 ASML 超越?

作者 |發布日期 2020 年 10 月 22 日 8:00 | 分類 材料、設備 , 零組件

當今世界光刻機三大製造商是:日本 Nikon、Canon 和荷蘭 ASML,日本 Nikon 和 Canon 都是知名百年老牌照相機製造商,ASML 則是 1984 才成立的合資公司,但如今 ASML 光刻機(曝光機)享譽全球,聲勢更超越 Nikon。ASML 後發制人卻能邁向成功,這是怎麼做到的?《科技新報》取得「若葉 ヒロユキ」授權轉載,以下為他的見解。

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中國政府欲攜手日企開發半導體曝光設備,市場觀察其結果

作者 |發布日期 2020 年 10 月 13 日 17:40 | 分類 IC 設計 , 中國觀察 , 國際觀察

隨著美國政府加強對中國半導體企業的制裁與管制,使得過去中國設定到 2025 年中國的晶片自給率要達到 7 成的目標存在變數。對此,《日本經濟新聞》報導指出,面對美國的制裁,從長遠來看,這將反而可能會助長中國半導體產業的自立與發展。尤其是為了突破美國對中國的高科技設備封鎖,中國方面將聯合日本廠商 Nikon 及 Canon 一起研發除 EUV 之外的其他曝光設備。

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傳華為探尋迂迴採購迴避美禁令,中廠找上日本設備商

作者 |發布日期 2020 年 05 月 28 日 10:00 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 材料、設備

美國商務部 15 日宣布,加強對中國華為的出口管制,外國企業若是使用美國技術/設備替華為生產晶片,需先取得美國當局的許可才能出貨,等同切斷華為與主要半導體供應商台積電的交易。現傳出為了對抗美國的新禁令,華為正探尋迂迴的採購對策,而中國廠商為尋找美國禁令「漏洞」,找上日本半導體設備商。 繼續閱讀..

受疫情重創大砍財測!Nikon 影像事業和微影設備損失破百億日圓

作者 |發布日期 2020 年 05 月 15 日 16:02 | 分類 數位相機 , 材料、設備 , 財報

日本光學大廠 Nikon 坦言公司業績受武漢肺炎疫情衝擊,不僅影響產品設備生產供應,也延誤 FPD 微影設備的安裝時程,加上影像事業等固定資產減損損失破百億日圓,導致 2020 財年整體營收與利潤都將低於先前預測,於是下修原先財測並延後公布財報。

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