俄羅斯將生產曝光機，2024 年 350 奈米，2026 年生產 65 奈米

根據俄羅斯媒體報導指出，俄羅斯本身正在研發生產晶片的微影曝光機。其工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 在接受媒體訪問時指出，2024 年將開始生產 350 奈米微影曝光機，2026年啟動用於生產 130 奈米製程晶片的微影曝光機。其生產將在莫斯科、澤列諾格勒、聖彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

Vasily Shpak 指出，當前全球只有兩家公司生產此類設備，包括日本 NIKON 和荷蘭 ASML。然而，其對於半導體的生產相當重要。Vasily Shpak 指出，一個簡單的邏輯就是，如果沒有半導體主權，那就沒有技術主權，那麼你在國防安全和政治主權方面就非常脆弱。而現在俄羅斯已經掌握了使用外國製造 65 奈米微影曝光機的技術，但因為外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的微影曝光機，所以俄羅斯正在匆忙開發自己的生產設備。

Vasily Shpak 表示，2024 年就將撥款 2,114 億盧布用於國內電子產品的開發。而俄羅斯決定開發 350 奈米到 65 奈米微影曝光機的原因，在於這一技術範圍內的晶片多用於微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應用大約占市場的 60%。所以，這項設備在全世界市場的需求量很大，並且將在至少 10 年內有持續的需求。

另外，當被問到可能遭遇的阻力時，Vasily Shpak 說，我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因為這關係到我們擁有哪些機會，以及所設定的目標。

(首圖來源：ASML官網)