Tag Archives: 微影曝光設備

ASML 第四季財報優於預期，對中國出口限制使 2024 年營運保守
作者 |發布日期 2024 年 01 月 24 日 14:40 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 發布 2023 年第四季與 2023 年全年財報。2023 年第四季銷售淨額 (net sales) 為 72 億歐元，較第三季的 67 億歐元成長，淨收入 (net income) 為 20 億歐元，也較三季的 19 億歐元成長，毛利率 (gross margin) 為 51.4%，較第三季的 51.9% 略為下滑。

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俄羅斯將生產曝光機，2024 年 350 奈米，2026 年生產 65 奈米
作者 |發布日期 2023 年 11 月 04 日 12:00 |
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分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據俄羅斯媒體報導指出，俄羅斯本身正在研發生產晶片的微影曝光機。其工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 在接受媒體訪問時指出，2024 年將開始生產 350 奈米微影曝光機，2026年啟動用於生產 130 奈米製程晶片的微影曝光機。其生產將在莫斯科、澤列諾格勒、聖彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

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台積電也得靠它，關鍵萊利公式扮演半導體製程微縮重要基礎
作者 |發布日期 2019 年 10 月 15 日 15:00 |
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分類 國際貿易 , 奈米 , 尖端科技

半導體講求製程微縮，生產的晶片有更小體積、更好效能之外，也有更優異的耗能表現。而在製程微縮的需求下，微影曝光設備能提供的效能就更加關鍵。如何讓微影曝光設備能提供更加精密的工作效能，全球微影曝光設備大廠艾司摩爾（ASML）就在官方 Facebook 公布關鍵公式：萊利公式（Rayleigh Criterion），使半導體微影曝光設備能持續發展。

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