Canon 動起來，建新廠翻倍微影曝光設備產能

日經亞洲評論報導，日本光學大廠佳能 (Canon) 將在日本東部建造一座半導體設備工廠，增產微影曝光設備，滿足美國、南韓和台灣晶片製造商巨額投資需求。

佳能新工廠將在櫪木縣，2025 年春季投產。投資金額包括建設成本和生產設備安裝等超過 500 億日圓（約 3.45 億美元），完工後產為現有產能翻倍。

佳能計劃在新工廠提高微影曝光設備的產量之外，還考慮生產以低成本生產先進半導體的下一代系統。目前日本兩家工廠生產類似設備，新工廠建於現有工廠約 70,000 平方公尺空地。這是佳能 21 年來再次建造微影曝光設備工廠，預計 2023 年動土。

世界半導體貿易統計，2021 年全球半導體市場首次超過 5,000 億美元，估計到 2030 年達 1 兆美元，規模比 2021 年翻倍。2022 年半導體微影曝光設備銷售額將較 2021 年成長 29%，達 180 台，比 10 年前成長四倍。佳能建新工廠有助滿足日益成長的市場需求。

佳能全球微影曝光設備市占率達 30%，僅次市占率 60% 的 ASML。英特爾和台積電都陸續宣布美國和其他國家新廠計畫，隨著半導體需求逐年成長，佳能決定提高微影曝光設備產能。

新工廠除了產能倍增，還預計開發「奈米壓印」下一代技術，使半導體生產以比現有微影曝光設備更低成本，就像沖壓建立半導體電路。佳能於新技術發展領先，記憶體大廠鎧俠和日本印刷公司也有參與。

(首圖來源：Flickr/OiMax CC BY 2.0)