在過去十年中,中國在半導體製造補貼上投入了約 1,420 億美元,這個數字是美國在同一時期內 390 億美元的 3.6 倍。根據戰略暨國際研究中心(CSIS)在 3 月初發表的一份報告,中國的這個巨額支出被視為在國際舞台上增強影響力和權力的手段。報告指出,儘管中國的技術支出龐大,但在尖端技術方面卻未能取得突破,這被稱為「顛覆性失敗」。
報告中提到,這1,420億美元的支出涵蓋了整個半導體價值鏈的直接產業政策支持。與此相比,韓國以550億美元位居第二,歐盟和日本分別為470億美元和175億美元,而台灣則以160億美元排名第五。值得注意的是,報告的時間範圍是2014年至2023年,這個時期大部分美國的CHIPS和科學法案的撥款尚未發放。

(Source:CSIS)
根據2025年半導體產業協會的數據,儘管中國的支出龐大,但其在全球半導體出貨量中的份額僅為4.5%,而美國公司仍占據超過50%的市占率。報告指出,中國的中芯國際(SMIC)在全球晶圓生產中的份額約為6%,在技術上落後於台積電和三星,且其5奈米製程的晶圓良率僅為20%。
報告還提到,中國的「大基金三期」於2024年啟動,旨在縮小在晶圓製造工具、EDA軟體和AI加速器方面的差距。分析師認為,中國在全球半導體競爭中可能會持續面臨挑戰,尤其是在美國對先進微影技術的出口管制下。
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