
擁有半導體前段技術創新與完整產品佈局的盛美半導體(ACM Research)10 日在 SEMICON TAIWAN 2025 舉行產品發佈會,發表在先進封裝領域的最新突破和未來戰略。董事長王暉博士指出,憑藉公司的技術優勢、完備解決方案以及多元化的產品線,目標是最快在 2030 年營收達到 30 億美元。
在晶圓清洗方面,盛美也有成熟產品,特別針對大尺寸晶圓清洗提供完整解決方案;立式爐管設備部分,公司持續擴展客戶群,產品已經應用到多個中國大陸主流積體電路製造工廠,支援邏輯、儲存、特殊製程等半導體產品製程應用,原子層沉積爐管產品已經進入邏輯電路先進及以下節點;半導體電鍍設備方面,盛美產品覆蓋從前段製程的 28 奈米、14 奈米及以下技術節點,並延伸至先進封裝,包括 TSV、2.5D/3D 封裝,甚至可處理三五族化合物材料的電鍍需求。
王暉博士指出,相比其他公司可能主要專注在電鍍、塗布或顯影,盛美半導體無論是 CoWoS、2.5D 還是 3D 封裝都能提供最完整的濕式製程設備組合,也可以說是全球濕法設備整合最全面的公司。
看好 AI 浪潮下 FOPLP 新機會,盛美推三款面板級封裝設備
隨著 AI 技術的飛速發展,AI 晶片尺寸不斷增大,傳統 300mm 晶圓在先進封裝製程中面臨嚴峻挑戰 。王暉博士解釋,使用晶圓進行 CoWoS 封裝最大的問題在於邊角材料的浪費,當一片大晶圓被劃分成四至六片時,邊角部分往往無法有效利用,這限制了良率與生產效率 。
相比之下,面板級封裝(PLP)採用方形基板,能大幅提升有效利用率。根據業界估算,相較傳統晶圓,面板的有效面積更多,可繼續做大 AI 晶片尺寸,在成本效益也更有優勢。王暉博士認為,若要推動未來更大尺寸的 CoWoS 與 AI 晶片發展,面板是唯一選項。
國際研究機構 Yole 預期,從 2024 年到 2030 年,面板級封裝市場將以年均複合成長率 27% 高速成長。王暉博士直言,一旦台積電能在 310 mm x310mm 面板上實現量產,將進一步推動 AI 晶片的先進封裝需求,開啟一個更龐大的市場空間。
為應對面板級封裝的龐大需求,盛美半導體推出三款核心設備,分別是面板級先進封裝電鍍設備、面板級邊緣濕法蝕刻設備,以及面板級負壓助焊劑清洗設備。
其中,負壓助焊劑清洗設備已經投入市場。透過抽真空,讓清洗液在真空與大氣壓交替作用下進行流動,可徹底清除中間的焊接殘留物以及其他雜質,從而達到高效率、深度清洗的效果。王暉博士指出,目前這套設備已在中國公司進行量產,清洗效果非常乾淨,能快速處理 GPU、HBM 等元件之間的助焊劑殘留,保持結構完整性。
獨創水平旋轉電鍍技術,破解業界八年難題
接著,王暉博士回顧產業歷史,表示目前業界在面板級封裝的電鍍技術上,幾乎都採用垂直電鍍,如 Semsysco、Nexx、 Ebara 推出的方案皆屬於垂直電鍍,而盛美半導體則是全球首家推出水平電鍍的公司。
傳統垂直電鍍將晶圓或面板垂直插入電鍍槽中。早在 200mm 晶圓封裝時期,市場普遍採用垂直電鍍,但進入 300mm 時代後,水平電鍍成為主流,因為基板在水平方向旋轉可大幅提升電鍍均勻性,使厚度控制更精準,良率和生產效率大幅提升,也有助於後續製程管理。目前台積電在 CoWoS 製程中,也完全採用水平電鍍技術。
王暉博士指出,但隨著市場向更大尺寸面板發展,業界又回到使用垂直電鍍,原因是使用水平電鍍存在技術瓶頸,即方形基板在旋轉時,方形電場無法同步轉動,而這個問題困擾了業界將近七、八年,始終未被突破。
經過多年研發,盛美半導體成功解決方形面板在水平電鍍中方形電場旋轉的難題,讓方形面板能在水平電鍍中順利同步旋轉。這一突破不僅讓水平電鍍在面板級先進封裝上應用成為可能,也使公司獲得 2025 年美國 3D InCites 協會的技術創新獎。
王暉博士指出,「方電場旋轉」這項突破性技術不僅成為公司的核心專利,也使盛美半導體成為面板水平電鍍領域的主要供應商。
水平電鍍具三大核心優勢,盛美半導體盼助攻 CoPoS 技術發展
談到水平電鍍的優勢,首先是可有效降低污染,因為在水平電鍍中,面板平放於電鍍槽內進行鍍銅,鍍完後先經過清洗,再把面板從鍍銅的夾具上轉移至鍍鎳或鍍錫銀的夾具上,大幅減少了電鍍槽間的交叉污染;第二,水平電鍍能讓方形電極旋轉,有助於提升電鍍均勻性和效率;最後,水平電鍍在產能表現上穩定,非常適合 CoWoS 技術。王暉博士指出,未來 CoWoS 的發展幾乎完全依賴水平電鍍技術,從 CoWoS 晶圓直接轉向面板級製程時,要回到垂直電鍍會非常困難,因此水平電鍍是 CoWoS 技術轉移到面板製程的最佳方案,也是業界必須掌握的核心技術。
王暉博士進一步強調,盛美半導體的方形電極旋轉技術已具備關鍵性能,能滿足未來需求,也有信心將方電極的電鍍特性做到與圓電極同等水準,實現 CoWoS 晶圓到面板製程的無縫銜接。
王暉博士預期,在 AI 晶片需求驅動下,FOPLP 市場有機會快速起飛,目前公司的面板級封裝設備支援兩種尺寸,分別是台積電推動的 310×310mm,以及其他客戶採用的 515×510mm,公司將針對這兩種尺寸提供完整解決方案。他也透露,目前在面板級電鍍封裝設備正與客戶洽談首台 Demo 導入,其他相關設備也在積極推進中,並準備好切入全球市場。
盛美半導體目標邁向全球前十強企業,計畫逐步擴展臺灣市場
展望未來,王暉博士博士期盼產品能大量進入臺灣、美國及歐洲市場,並逐步邁向全球設備前十強企業。他也重申,目標是實現年營收約 30 億美元。
王暉博士表示,盛美半導體已在美國、歐洲、韓國及東南亞設立銷售與服務中心,未來將加速全球化佈局。同時,公司研發的差異化、原創產品,將持續為全球半導體客戶提供長期價值。
隨著未來五到十年,AI 晶片對先進技術的需求將持續增加,許多未來 AI 晶片需要的設備及材料技術仍處於研發階段,這給有創新能力的公司帶來巨大的市場機會。盛美半導體不僅將深耕中國市場,也會積極拓展美國業務,並計畫未來在臺灣建立研發與生產基地,將核心技術與創新能力帶到臺灣。
「臺灣是一個非常重要的市場,尤其在先進晶片製造領域。」王暉博士表示,台積電近期的資料令人驚艷,作為設備供應商,期待能透過自家的差異化水平電鍍產品,為台積電下一代 AI 晶片面板封裝製造做出貢獻,這也是盛美半導體在臺灣市場的起點。
(首圖來源:盛美半導體)