因應需求激增，日本半導體材料商 JX 金屬（JX Advanced Metals Corporation）增產半導體用金屬薄膜材料「濺鍍靶材」（Sputtering Targets），目標將產能擴增 6 成。 繼續閱讀..
需求激增 JX 金屬增產半導體用濺鍍靶材、擴產 6 成 |
作者
MoneyDJ|發布日期
2026 年 03 月 11 日 8:30 |
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