中國曝光機「羲之」,精度逼近 ASML 卻難量產 作者 蘇 子芸|發布日期 2025 年 08 月 19 日 11:50 | 分類 AI 人工智慧 , 半導體 , 晶圓 | edit 浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」,號稱性能已能媲美國際主流設備,同時售價低於國際平均水準,但生產效率仍顯不足。 繼續閱讀..