中研院胡正明院士榮獲美國國家技術與創新獎章 作者 TechNews | 發布日期 2015 年 12 月 31 日 11:40 | 分類 市場動態 , 晶片 , 會員專區 | edit 本篇文章將帶你了解 :中研院胡正明院士榮獲美國國家技術與創新獎章 美國白宮於 12 月 22 日宣布中研院工程組胡正明院士榮獲美國「國家技術與創新獎章」（National Medal of Technology and Innovation），這是美國政府對科技創新領域貢獻卓著的專家所頒授的最高榮譽獎章，今年共有 8 名獲獎人，歐巴馬總統將於明年 1 月白宮頒獎典禮中親自頒授獎項。 本篇文章將帶你了解 :中研院胡正明院士榮獲美國國家技術與創新獎章 這篇文章為深度內容，只有加入會員可以觀看 升級會員讓您暢讀無阻，即可查看此文章完整內容 立刻加入我們吧 <a href='//www5.technews.tw/www/delivery/ck.php?n=a4b3f35b&cb=INSERT_RANDOM_NUMBER_HERE' target='_blank'><img src='//www5.technews.tw/www/delivery/avw.php?zoneid=59&cb=INSERT_RANDOM_NUMBER_HERE&n=a4b3f35b' border='0' alt='' /></a> 科技新知，時時更新 科技新報粉絲團 訂閱免費電子報 關鍵字: FinFET , 半導體 , 國家技術與創新獎章
