根據日經報導,日本半導體材料廠東京應化工業(Tokyo Ohka Kogyo)宣布,將於韓國平澤投資 200 億日圓(約 1.3 億美元) 興建光阻劑工廠,預計 2030 年完工投產。這項新設投資將使公司在韓國的產能提升三至四倍,鎖定三星 與 SK 海力士等客戶,供應高階記憶體與封裝材料。
東京應化社長種市順昭指出,公司正強化海外產能配置,希望能更貼近客戶廠區,提供即時且穩定的材料支援。光阻劑是決定晶片線寬與解析度的關鍵材料,日本業者長年居全球領先地位,市占率高達 91%,包括 JSR 在內的廠商皆掌握主要技術優勢。
除光阻擴產外,東京應化也計劃在韓國投資 120 億日圓,設立高純度化學品工廠,用於半導體製程關鍵環節。業界普遍解讀,這波布局反映日本材料商正積極外擴,以提前部署 2 奈米與更先進製程需求。
同時,Adeka 也宣布斥資 32 億日圓,於茨城縣擴建新產線,預定 2028 年 4 月之後啟用,將量產EUV 製程用的金屬氧化物光阻(Metal Oxide Resist,MOR)。此新型光阻含金屬成分,解析度更高、線寬控制更精準。另一家日商 JSR 也正在韓國建置 MOR 產線,預計明年底投產。
根據 PwC 統計,全球半導體材料市場規模將從 2024 年的 720 億美元成長至 2030 年的 970 億美元,增幅約 35%。隨著 AI 晶片需求推升製程微縮與堆疊密度,單一晶片封裝所需材料同步上升。
(首圖來源:micro materials)
                
                    

                



                    