日經:JSR 擬在台設廠,供應台積電光阻劑 |
| 作者 中央社|發布日期 2026 年 05 月 05 日 17:50 | 分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓 |
Tag Archives: 光阻劑
石腦油供應緊縮影響光阻劑供應鏈,三星、SK 海力士衝擊大 |
| 作者 林 妤柔|發布日期 2026 年 04 月 24 日 14:44 | 分類 半導體 , 國際觀察 |
中東地緣政治衝突正對亞洲半導體產業帶來衝擊,使得供應鏈脆弱性再次浮現。隨著光阻劑(photoresist)出現短缺,晶片製造面臨新一波壓力。 繼續閱讀..
日本半導體三巨頭斥巨資擴產:2 奈米時代降臨 |
| 作者 Unwire Pro|發布日期 2025 年 11 月 06 日 7:10 | 分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓 |
日本半導體三大巨頭在全球掀起激烈產能競速,是下代晶片製程爭奪的預判。東京應化工業(Tokyo Ohka Kogyo,TOK)、JSR 公司和 ADEKA 日本光阻劑製造商近期宣布數十億日圓投資計畫,代表全球半導體供應鏈又經歷深度重塑。投資除了對抗韓國三星和 SK 海力士等,更是為 2025~2030 年即將爆發的先進製程需求做好準備。 繼續閱讀..
半導體製程 EUV 王朝難撼動,Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 11 月 04 日 12:30 | 分類 半導體 , 材料、設備 |
在半導體製造的最前線,曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光(DUV)與極紫外光(EUV)兔光機,建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而,日本光學大廠佳能(Canon)正嘗試以另一條路徑突圍,那就是奈米壓印 (Nanoimprint Lithography,NIL)。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術,正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。



