AI 液冷管也要洗澡？天品進攻高潔淨清洗市場

隨著 AI 資料中心功耗持續攀升，液冷散熱逐漸成為高效能運算的重要基礎設施，也帶動相關供應鏈需求同步成長。天品近年透過旗下奈米潔淨切入 AI 伺服器液冷清洗市場，董事長李振寬表示，隨著輝達Vera Rubin 等新世代 AI 平台陸續導入，液冷系統需求持續增加，高潔淨清洗市場也迎來新的成長機會。

李振寬指出，奈米潔淨最大的競爭優勢並非設備，而是多年累積的化學藥劑與清洗製程能力。公司主要提供去油、拋光及精密清洗服務，並透過藥劑配方與製程技術提升清洗效率與潔淨品質。

他表示，AI 伺服器液冷系統中的冷板、CDU、水冷板及金屬管路等零組件，在切削、鑽孔、焊接等加工過程中，容易殘留金屬碎屑、油污、氧化物及微粒污染物。因此，在零件組裝與管線接合前，必須經過高潔淨清洗程序，避免雜質殘留於系統內部。

李振寬進一步指出，液冷系統如同 AI 伺服器的循環系統，若管路內殘留金屬碎屑或懸浮微粒，未來冷卻液循環時便可能將污染物帶往整個系統，不僅影響散熱效率，也可能造成管路堵塞、幫浦磨損，甚至影響設備可靠度。因此，隨著 AI 晶片功耗持續提升，客戶對潔淨度與品質管控的要求也愈來愈高。

他表示，過去部分產品的清洗標準約為 150 微米等級，目前已有客戶要求提升至 25 微米等級。隨著 Vera Rubin 世代平台導入，液冷系統規模與複雜度將進一步提升，相關清洗與檢測需求也將同步增加。

因應市場需求成長，奈米潔淨今年新增兩條 AI 相關清洗產線，其中第二條產線已於 6 月完成建置。李振寬表示，第一條產線可貢獻約 4,000 萬元營收，兩條產線合計年營收貢獻可望達 8,000 萬元至 1 億元。此外，公司也積極布局馬來西亞與美國市場，希望就近服務當地 AI 與科技供應鏈客戶。

受惠 AI 液冷清洗需求快速成長，目前天品 AI 潔淨事業營收占比已接近四成。公司看好未來 AI 資料中心建設持續擴大，以及液冷技術逐步成為高功耗伺服器標準配置，高潔淨清洗與檢測需求將持續攀升，可望成為未來重要成長動能。

天品 2026 年第一季稅後淨利達 7,546 萬元，較 2025 年第四季及去年同期均由虧轉盈，每股盈餘（EPS）1.22 元。

（首圖來源：科技新報）