綜合外電報導，荷蘭半導體設備大廠 ASML 傳出在極紫外光（EUV）技術上取得關鍵進展，規劃將光源功率由 600W 提升至 1,000W。若新方案順利導入，晶圓產能有望提升約 50%，且無需額外擴建無塵室或新增整套機台。 繼續閱讀..
ASML 擬升級 EUV 光源至 1,000W，晶圓產能有望提升 50% |
作者
蘇 子芸|發布日期
2026 年 02 月 24 日 9:45 |
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