約翰霍普金斯大學（Johns Hopkins University）研究人員揭示一種全新的晶片製造方法，使用波長 6.5 奈米至 6.7 奈米 的雷射，即「軟 X 光」（Soft X-ray），有望讓曝光設備的解析度提升至 5 奈米以下。 繼續閱讀..
挑戰 Hyper-NA EUV？科學家嘗試新 B-EUV 微影、CLD 沉積，有望顛覆未來晶片製造 |
作者
林 妤柔|發布日期
2025 年 09 月 18 日 11:54 |
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