美光將在日本投資千億提升 Mobile DRAM 產能

作者 | 發布日期 2014 年 11 月 11 日 14:30 | 分類 晶片
Micron-DRAM

在看好行動裝置的成長下,美光科技(Micron)預計將擴大行動裝置使用的行動記憶體(Mobile DRAM)的產量,因此將再投資原屬日本爾必達的工廠來擴增產能,這同時也是美光近三年來最大的一筆擴廠投資案。



根據日本經濟新聞社的報導,此次美光投入的金額將高達一千億日元,主要用於擴增 2014 年收購的原爾必達記憶體位於日本廣島工廠,透過此次的投資擴產,美光預計於 2015 年 8 月時將可將行動裝置產能提高 20%。

在日本廣島預計採用新一代 20 奈米的製程來生產,與上一代 25 奈米製程相比,效率也將大幅提昇,估計從單一晶圓上可獲得的半導體晶片量將增加約 20%,透過此次的產能擴增,美光將藉此趕上產能最大的韓國三星。

美光看好未來行動裝置與伺服器市場的成長,因此預計於本財年度也計劃於全球投資 38 億美元於相關的生產設備投資上,而且其中一半與 DRAM 有關。

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