儀科中心成立聯合實驗室，與產學界推動半導體產業發展

為推動我國半導體產業發展，國家實驗研究院儀器科技研究中心成立「原子層沉積聯合實驗室」服務平台，於 2015 年 3 月 4 日舉辦揭牌儀式，同時與台灣積體電路股份有限公司簽訂合作協議，並邀請國內學界及供應商，包括清華大學、虎尾科大、南美特、漢民科技、漢民微測、漢辰科技、大甲永和、柏朗豪斯特與美商 MSP 等，共同聚焦於原子層沉積製程設備與材料開發，合作推動台灣半導體產業發展。

此一實驗室的建立亦顯示儀科中心以累積已久的先進薄膜製程、真空儀器系統發展技術跨足台灣半導體產業的決心。與會的台積電孫元成副總經理期勉在場的伙伴嘉賓，整合產、學、研三方能量共同推動此一服務平台，將提升我國半導體製程設備技術與化學材料開發的研發實力。

▲ 國研院綦振瀛副院長（左）、台積電孫元成副總經理（右）簽訂合作協議，共同推動半導體產業新趨勢。

在半導體的製程中，原子層沉積技術（atomic layer deposition，ALD）由於具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性，已成為半導體產業的一項主流技術，然而目前台灣的半導體產業設備供應鏈中，卻鮮少具有競爭力的薄膜製程設備供應商。依照 ALD 產業的成長趨勢，2015 年台灣在 ALD 設備及原材料的需求，預估將達到 77 億元的產值，但國內半導體廠必須仰賴國外的設備商提供製程設備及前驅物材料，造成業者在成本上的負擔及技術上的限制，更無法掌控未來技術的發展藍圖。

儀科中心深耕真空系統研製技術 40 年，為國內太空遙測技術、真空鍍膜、光學鏡片研磨首屈一指的專業實驗室與儀器設備開發中心。儀科中心已投入 ALD 相關研究逾 10 年，累積豐厚的技術能量，並已提供學界多套自製 ALD 系統。現在儀科中心更進一步與台積電及產學各界推動成立「原子層沉積聯合實驗室」，希望能將本身的 ALD 技術能量推廣到業界，提供半導體製造業 ALD 製程設備測試與開發驗證之服務平台。

平台三大服務內容為：

1. 前驅物的合成與篩選測試－提供學研界對於前驅物材料的鍍膜測試；
2. 製程測試與驗證服務－供給產業界製程參數的調變測試與驗證；
3. 客製化 ALD 設備與腔體開發－提供客製化的真空腔體設計與系統整合服務。

儀科中心期望透過與台積電強而有力的伙伴關係，整合產、學、研三方能量，共同推動此一服務平台，提升我國半導體製程設備與化學材料開發技術。

藉由「原子層沉積聯合實驗室」服務平台，儀科中心 ALD 團隊也不斷提升自我能力，並實現先進系統設計與相關材料開發。儀科中心期許能藉由與產學界多方合作的經驗累積，掌握奈米製程與元件整合技術應用的前瞻技術新趨勢，成功扮演儀器系統開發與技術服務的角色。