Micro LED 量產有新突破,VueReal 專利覆晶技術將良率提升至 99.9%

作者 | 發布日期 2020 年 12 月 30 日 11:41 | 分類 光電科技 , 晶片 , 材料、設備 Telegram share ! follow us in feedly


Micro LED 應用要大量普及,重點還是在於如何提升良率和降低成本,以實現量產化。根據外媒 Display Daily 報導,加拿大的 Micro LED 新創公司 VueReal 日前宣布,透過其專有的覆晶(FlipChip)架構 Micro LED,可將良率提升至 99.9%;且和現有的 Micro LED 技術相比,不僅製程較為簡單,可透過自動化產線實現更高的良率,大幅降低製造成本。

據悉,覆晶式架構是目前業界普遍採用的方式,不過,傳統的覆晶式架構是運用兩步驟平台製程(Two Step Mesa Process),比垂直式(Vertical)架構的步驟多出兩倍,會使主台面變小,且易在結合邊界的整合製程上產生一個機械弱點(Mechanical Weak)。這也使得多數的 Micro LED 製程相對複雜,並容易產生靜電放電(ESD)效應,導致產量偏低,使得成本難以下降。

▲VueReal 透過新的覆晶技術提升產能。(Source:Display Daily

VueReal 執行長 Reza Chaji 表示,覆晶式架構是目前生產 Micro LED 主流技術,但由於製程複雜,使得許多製造商良率無法突破 90%,也因而無法大量量產。也因此,VueReal 開發出獨有的覆晶式架構,具有垂直結構許多特性,不僅尺寸較小,且製程相對簡單,並能藉由自動化生產提升良率,不僅提高產能,也可大幅減少修復成本。

而 VueReal 財務長 Dave Miller 則透露,目前 VueReal 擁有部分自有產能,可為第三方應用提供和開發基於其專有覆晶架構的 Micro LED;同時,VueReal 目前也正授權給其他 Micro LED 供應商,協助他們實現更高的產量,且 VueReal 將採用 VueReal microVue 檢測系統對 Micro LED 的缺陷和性能進行全面檢測,以進一步提高良率,降低成本。

(首圖來源:plessey semiconductors

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