資料中心液冷技術發展趨勢分析

作者 | 發布日期 2022 年 08 月 16 日 9:00 | 分類 GPU , 會員專區 , 網路 Telegram share ! follow us in feedly


未來資料中心被動單/雙相液冷技術將可望依託低 PUE 值,取代氣冷成為新興散熱主流。伺服器運算領域採用越來越多「熱設計功耗」(Thermal Design Power,TDP)較高的 CPU 與 GPU 等電子元件,提升傳統氣冷散熱技術冷卻效率已遭遇瓶頸,因而被動單/雙相液冷技術因無須額外供電以耗能設備協助冷卻液循環,將大幅降低資料中心 PUE 值,並得以同時提升伺服器散熱效率,將更多資料中心耗電用於電腦系統運算,可謂一石二鳥的高度潛力技術。

本篇文章將帶你了解 :
  • 未來資料中心被動單/雙相液冷技術適用性
  • 「維持冷卻液雙相變化穩定」為商用關鍵