資料中心液冷技術發展趨勢分析

未來資料中心被動單／雙相液冷技術將可望依託低 PUE 值，取代氣冷成為新興散熱主流。伺服器運算領域採用越來越多「熱設計功耗」（Thermal Design Power，TDP）較高的 CPU 與 GPU 等電子元件，提升傳統氣冷散熱技術冷卻效率已遭遇瓶頸，因而被動單／雙相液冷技術因無須額外供電以耗能設備協助冷卻液循環，將大幅降低資料中心 PUE 值，並得以同時提升伺服器散熱效率，將更多資料中心耗電用於電腦系統運算，可謂一石二鳥的高度潛力技術。