外媒報導，日本和荷蘭原則上同意美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備，主要限制 16 奈米製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV)，可廣泛用於 40 奈米成熟製程到 5 奈米先進製程，對中國半導體產業生產與發展影響甚大。中國除了向世界貿易組織告狀，消息指出中國廠商開始向各大設備商擴大採購，多少延長受衝擊時間。
彭博社報導，知情人士透露，日本和荷蘭原則上同意加入美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備。兩國很可能幾週內宣布，至少採取如美國 10 月部分限制措施。內容大致討論完成，剩最後執行細節和磋商，公布後半導體設備供應商應用材料、科林研發、科磊、日商東京威力科創和荷蘭商 ASML 等企業都會受影響。
中國正向世界貿易組織 (WTO) 提起訴訟，試圖推翻美國出口管制。美國管制目的是限制中國發展半導體產業且加強軍備的能力。中國商務部聲明，12 日向世貿組織提交訴狀，指美國出口限制威脅到價值 5,800 億美元產業的基礎，強調美國不公平使用模糊的安全理由，阻止競爭對手發展，還威脅到全球供應鏈。不過中國就算上訴成功，世貿組織也沒有能力叫美國改變行動。
除了告狀到世界貿易組織，市場消息人士指出，可能受此影響的中國廠商，正在擴大採購設備，希望措施生效前買入更多設備，延緩營運衝擊。美國 10 月限制 NAND Flash 128 層堆疊以上產品生產設備出口中國，長江存儲仍可生產 232 層堆疊產品，外界就推測長江存儲先就得知消息，大量採購設備以因應需求。只是之前購買的設備雖能幫助現在生產，之後機台更新、維護、換料等都會遭禁止，一樣還是面臨停擺命運。長江存儲第二座工廠量產和晶圓代工廠中芯國際擴產計畫都可能停止。
(首圖來源：shutterstock)
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