KAIST 研發 Micro LED 畫素製造新技術

南韓科學技術院（KAIST）物理系 Yong-Hoon Cho 教授的研究團隊，8 日發表製造超高解析度 LED 顯示器的核心技術，透過聚焦離子束（focused ion beams）實現了 0.5 微米 LED 畫素，小於頭髮平均厚度百分之一。

超高解析度LED顯示螢幕畫素化，通常依賴物理切割畫素周圍區域的蝕刻法，但隨著LED畫素變小，周圍出現各種缺陷，如電流洩漏增加和發光效率降低。因此，傳統物理切割還需要搭配各種額外複雜製程，例如畫素圖案化製程和預防漏電的後期處理。

▲ 透過He聚焦離子束（FIB）照射LED器件製造超高密度亞微米畫素。（Source：KAIST，下同）

而Yong-Hoon Cho教授團隊開發新技術，透過使用聚焦離子束，即可製成微米級LED畫素，且無需進行複雜前期和後期處理。這種方法的優點是，透過控制聚焦離子束強度，能自由設置發光畫素形狀，且不會造成材料表面任何結構變形。

▲ 上：由聚焦離子束實現的不同大小矩形畫素的表面結構圖片和發光圖片；下：畫素陣列的發光圖片，尺寸從20×20μm到0.5×0.5μm，表面平整度保持不變。

聚焦離子束技術已廣泛應用於材料工程和生物學等領域的超高倍率成像和奈米結構製造。

然而，當聚焦離子束用於LED等發光體時，被光束擊中的發光體部分及周圍區域的光發射將迅速減少，阻礙奈米級發光結構製造。KAIST研究團隊就該問題展開研究，解決聚焦離子束在超精細LED畫素化製造的難題。

Yong-Hoon Cho教授表示，超高解析度顯示器是開發虛擬實境（VR）、擴增實境（AR）和智慧手錶等下代電子產品的重要部分。本次團隊新技術使用聚焦離子束創建亞微米級LED畫素，且無需複雜過程，可用於下一代超高解析度顯示器和奈米光電器件。

（本文由 LEDinside 授權轉載；首圖來源：shutterstock）