突破相機感光元件性能極限,imec 全新次微米畫素彩色成像技術

作者 | 發布日期 2023 年 12 月 12 日 16:10 | 分類 光電科技 , 半導體 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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突破相機感光元件性能極限,imec 全新次微米畫素彩色成像技術

本週舉行的 2023 年 IEEE 國際電子會議(IEDM),比利時微電子研究中心(imec)展示一套次微米(sib-micron)等級解析度忠實分割色彩的全新技術,採用的是在 12 吋晶圓上製造的傳統後段製程。此技術預計用來提升高階相機的性能,帶來更高的訊噪比(SNR),並以前所未見的超高空間解析度來強化彩色成像品質。

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