Tag Archives: imec

科林研發宣布新乾式光阻技術,可建立 28 奈米間距的高解析度圖案化

作者 |發布日期 2025 年 01 月 17 日 10:02 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備

科林研發( Lam Research)宣布其創新的乾式光阻(dry resist)技術可直接印刷 28 奈米間距之後段(BEOL)邏輯製程,適用於 2 奈米以下先進製程,現已獲得在奈米電子與數位技術領域中,極具領導地位的研究與創新中心 imec 所認證。 繼續閱讀..

imec 最新超導數位核心組件,展現可擴充性與 CMOS 相容性

作者 |發布日期 2024 年 12 月 12 日 16:20 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶片

在 2024 年 IEEE 國際電子會議(IEDM)上,比利時微電子研究中心(imec)展示三款超導數位電路的關鍵組件,包括基於氮化鈮鈦(NbTiN)的內連導線、約瑟夫森接面和 MIM 電容。這些元件不僅性能超越最頂尖的超導體技術,還能為推動人工智慧(AI)和高效能運算革命性發展所設計的超導數位系統滿足目標規格。此次展出的技術,不僅具備可擴充性,也與 CMOS 製造技術相容,消弭了實驗室規模的可行性研究走向業界製造的差距。

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為埃米時代開始準備,imec 提出雙列 CFET 結構推動 7 埃米製程

作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:10 | 分類 GPU , IC 設計 , 半導體

在 2024 年 IEEE 國際電子會議(IEDM)上,比利時微電子研究中心(imec)發表一款採用互補式場效電晶體(CFET)的全新標準單元結構,內含兩列 CFET 元件,兩者之間共用一層訊號佈線牆。這種雙列 CFET 架構的主要好處在於簡化製程和大幅減少邏輯元件和靜態隨機存取記憶體(SRAM)的面積—根據 imec 進行的設計技術協同優化(DTCO)研究。與傳統的單列 CFET 相比,此新架構能讓標準單元高度從 4 軌降到 3.5 軌。

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imec 發表高光譜感測器,聚焦太空多光譜及高光譜應用

作者 |發布日期 2024 年 08 月 06 日 15:15 | 分類 光電科技 , 鏡頭 , 零組件

本週美國猶他州舉行 2024 年小衛星會議(Small Satellite conference),比利時微電子研究中心(imec)為產品組合新增高光譜感測器,聚焦太空應用。高光譜感測器含一顆線掃式濾光片,支援廣域波長(450~900 奈米),還有一致高度感光性能,適合滿足小型衛星地球探測應用對訊噪比(SNR)的嚴苛需求。

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