目標將次世代半導體(晶片)國產化、由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 公布最新的生產計畫,預計將在 2025 年 4 月試產 2 奈米晶片。 繼續閱讀..
日本 Rapidus 目標 2025 年 4 月試產 2 奈米晶片 |
作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 05 月 23 日 11:35 | 分類 半導體 , 晶片 |
半導體埃米時代生產利器,imec 展示最新 High-NA EUV 技術進展 |
作者 Atkinson|發布日期 2022 年 04 月 27 日 10:40 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片 | edit |
全球半導體技術研究重鎮的比利時微電子研究中心(imec),日前國際光學工程學會(SPIE)先進曝光微影成形技術會議,展示 High-NA(高數值孔徑)曝光技術的大進展,含顯影與蝕刻製程的開發、新興光阻劑與塗料測試、量測與光罩技術最佳化等。因 imec 與台積電、英特爾等國際大廠密切合作,業界預期先進製程 2025 年後進入埃米(angstorm)時代,High-NA 曝光技術將是關鍵。
不受摩爾定律限制,ASML 開始設計 1 奈米製程曝光設備 |
作者 Atkinson|發布日期 2020 年 12 月 01 日 6:00 | 分類 IC 設計 , 國際觀察 , 晶圓 | edit |
根據外媒報導,日前在日本東京舉行了 ITF(IMEC Technology Forum,. ITF)論壇。在論壇上,與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾(ASML)合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 奈米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節。根據其所公布的內容來分析,ASML 對於 3 奈米、2 奈米、1.5 奈米、1 奈米,甚至是小於 1 奈米的製程都做了清楚的發展規劃,代表著 ASML 基本上已經能開發 1 奈米製程的曝光設備了。
中芯結盟高通、華為、imec 練功,至少 3 至 5 年才有效益可見 |
作者 TechNews|發布日期 2015 年 06 月 24 日 17:10 | 分類 晶片 , 零組件 | edit |
2015 年 6 月 23 日中芯國際與華為、