東京威力熊本研發中心啟用，瞄準 1 奈米級製程設備

根據日經報導，日本半導體設備大廠東京威力科創於 10 月 15 日對外宣布，其位於熊本的新研發大樓（Process Development Building）已正式落成，將做為公司推進次世代半導體製程設備研發的核心基地，預計 2025 年春季投入運作。

隨著全球數位化浪潮與 AI 應用需求激增，東京威力科創正鎖定「更精細製程（finer scaling）」與「更高整合度（higher integration）」兩大方向著力研發。公司預期，其設備技術未來有望延伸至 1 奈米級的先進製程領域。

在技術合作方面，東京威力科創亦攜手荷蘭 ASML 以及比利時 Imec 等國際機構，攜手推動先進極紫外光（EUV）技術與新世代材料的研發。公司指出，隨著線寬日益縮小、製程日趨複雜，化學試劑與用水用量也隨之攀升，因此未來在節能、減少化學品使用、降低水耗方面的環保技術將是關鍵，目標在維持性能提升之餘，也能壓低先進製程的製造成本並減少碳排放。

這棟新落成的大樓座落於熊本縣合志市，總樓地板面積約 27,000 平方公尺，投資規模約 470 億日圓（約新台幣 94 億元）。該設施為東京威力科創旗下製造與研發子公司 Tokyo Electron Kyushu 所屬，主要負責塗佈／顯影設備（coater-developers）、清洗系統（cleaning systems）以及 3D 封裝設備（含晶圓鍵合機，wafer bonders）的設計與製造。

面對短期市場波動與中國設備需求衰退的挑戰，東京威力科創對中長期前景仍抱持信心。公司計畫在 2024 至 2029 會計年期間投入超過 1.5 兆日圓（約新台幣 3,000 億元）於研發領域，相較於前五年增幅約 90%，目的在穩固次世代製程及提升設備效率的技術實力。

近年來，熊本地區正在快速發展成為日本半導體產業的新聚落。除台積電之外，包括 Sony 及材料與設備公司也已落地當地。這座新研發大樓完工後預期可進一步加深與台積電之間的合作關係，促進先進曝光技術與塗佈／顯影設備的驗證與聯合開發。

值得注意的是，先前台積電的機密外洩案引起關注，未來雙方的信任與合作是否將因此受到影響，仍有待觀察。

（首圖來源：東京威力科創）