JX 金屬傳擬對 Rapidus 出資、供應半導體材料

日本官民合作設立的晶圓代工廠 Rapidus 目標在 2027 年度下半年量產 2 奈米（nm）晶片，而日本半導體材料廠 JX 金屬（JX Advanced Metals Corporation）傳出擬對 Rapidus 出資 50 億日圓，考慮供應半導體材料給 Rapidus。

日經新聞20日報導，JX金屬據悉考慮對Rapidus出資50億日圓。Rapidus目標在2025年度內（2026年3月底前）從民間企業籌措1,300億日圓資金，目前據悉有約30家企業考慮對Rapidus出資，其中多數為銀行，JX金屬將成為為數不多的材料廠商，今後考慮供應半導體材料給Rapidus。

報導指出，JX金屬生產濺鍍靶材（Sputtering Targets）等半導體材料，濺鍍靶材用於生產最先進邏輯晶片、記憶體等各種半導體元件，JX金屬全球市占率達6成，而對Rapidus來說，今後也將需要JX金屬的濺鍍靶材。

據報導，JX金屬正準備增產濺鍍靶材，且除了濺鍍靶材外，JX金屬在2025年期間多次宣布將增產光通訊機器用結晶材料「InP基板」。

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：shutterstock）

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