隨著美中科技競爭日益激烈,北京當局據報已發布一項新的指令,禁止在國家資助的資料中心計畫中使用外國製造的人工智慧(AI)晶片。此舉被視為對包括輝達和 AMD 在內的多家美國晶片大廠的重大衝擊。
中國禁止資料中心使用國外 AI 晶片,市場預計衝擊輝達有利華為 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 11 月 06 日 7:00 | 分類 AI 人工智慧 , GPU , IC 設計 |
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半導體製程 EUV 王朝難撼動,Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 11 月 04 日 12:30 | 分類 半導體 , 材料、設備 | edit |
在半導體製造的最前線,曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光(DUV)與極紫外光(EUV)兔光機,建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而,日本光學大廠佳能(Canon)正嘗試以另一條路徑突圍,那就是奈米壓印 (Nanoimprint Lithography,NIL)。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術,正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。
