雄心不只 5 奈米!傳華為擬將多重圖案化推進至 3 奈米製程 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 05 月 29 日 10:59 | 分類 IC 設計 , 中國觀察 , 晶圓 | edit 今年初華為和中芯國際送交名為「自對準多重圖案化」(SAQP)晶片專利,外界猜測是用 5 奈米級製程生產晶片。外媒 Tom′s Hardware 報導,華為希望將這技術用於 3 奈米製程。 繼續閱讀..