室溫下保持高載流子移動率,稀有元素碲或可成為高效晶片祕方

作者 | 發布日期 2018 年 05 月 25 日 17:26 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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室溫下保持高載流子移動率,稀有元素碲或可成為高效晶片祕方

美國普渡大學研究人員發現一種衍生自稀有元素碲(tellurium)的極薄二維材料,可大幅提升晶片電晶體運行效率,進而提高電子裝置(如手機、電腦)處理訊息的速度,也能增強諸如紅外線感測器的技術。

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