ASML 極紫外光微影系統,刷新生產力紀錄

作者 | 發布日期 2015 年 02 月 24 日 19:10 | 分類 會員專區 , 零組件 Telegram share ! follow us in feedly


全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今日證實該公司的 NXE:3300B EUV 極紫外光(EUV)微影系統在 TSMC 成功達到單日曝光超過 1,000 片晶圓的目標,不但再次刷新 EUV 微影系統生產力新紀錄,更為 EUV 微影技術用於先進製程量產注入強心針。

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